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J-GLOBAL ID：201202223360918927   整理番号：12A0506735

Kemironへの埋立浸出液のヒ素の吸着

Adsorption of arsenic onto Kemiron in a landfill leachate

著者 (6件)： OTI Douglas (Western Environmental & Medical Supplies, LLC, FL, USA) ,  THOMAS Ken (Auburn Univ., AL, USA) ,  OMISCA Erlande (Univ. South Florida, FL, USA) ,  HOWARD Joniqua (Univ. South Florida, FL, USA) ,  HOWARD Joniqua (Univ. Puerto Rico - Mayaguez, Mayaguez, PRI) ,  TROTZ Maya (Western Environmental & Medical Supplies, LLC, FL, USA)
資料名： Toxicological and Environmental Chemistry  (Toxicological and Environmental Chemistry)
巻： 94  号： 1-2  ページ： 239-251  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： D0907A  ISSN： 0277-2248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,飲料水の許容汚染濃度の超えるAsを含有していた,石灰岩上にあるフロリダ州のNorth Central Polk郡の埋立浸出液について,自然環境条件下,市販酸化鉄系吸着剤,KemironのAs(V)除去の有効性(吸着密度)に及ぼす諸因子の影響を検討した。その結果,次のことが分かった。1)本埋立浸出液の材令はKemironへのAs(V)の吸着密度に顕著な影響を及ぼさないがAs(III)のそれにはわずかな変化がある。2)4価セレンの存在は,本合成埋立浸出液のAsのKemironの吸着密度の主制御因子である。3)CA²⁺,アンモニア態窒素,硫酸イオンと炭酸イオンはAsのKemironの吸着密度に顕著な影響を及ぼさない。4)酸化還元電位(ORP)とpHはKemironのAs吸着で4価セレンに加えて一番影響する因子であり,ORPの変化は本溶液系のpHの変化をもたらす。

シソーラス用語： *ヒ素 ,  毒性 ,  重金属汚染 ,  水質汚濁物質 ,  地下水汚濁 ,  *浸出液 ,  埋立 ,  *フロリダ州 ,  石灰岩 ,  帯水層 ,  物理的水処理 ,  吸着 ,  酸化還元電位 ,  pH依存性 ,  吸着剤 ,  セレン ,  電荷
準シソーラス用語： North Central Polk郡 ,  Se(IV) ,  市販酸化鉄系吸着剤 ,  *埋立浸出液

分類 (6件)： 水質汚濁一般  (SB02010U) ,  重金属とその化合物一般  (SB05021R) ,  ごみ処理  (SC05030O) ,  透水性,浸透水,土中水  (RA03040E) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  用水の物理的処理  (SC02030T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 埋立浸出液 ,  ヒ素 ,  吸着