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J-GLOBAL ID：201202223464628548   整理番号：12A0521936

I-Xプローブによる加熱円柱後流の測定(U₀=5m/s,Δθ=140°C,X/d=3の場合)

著者 (1件)： 渡部英昭 (秋田工高専)
資料名： 秋田工業高等専門学校研究紀要  (Research Reports of Akita National College of Technology)
号： 47  ページ： 38-45  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： S0960A  ISSN： 0285-5364  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 工学機器の暖房効率向上など工学的価値が高いにも関わらず,加熱鈍頭後流のような温度・速度が同時に変動する流れ場の構造を明らかにした研究は少ない。本研究では,二線式温度流速計に接続したI-Xプローブを用いて,周囲の気流との温度差を140°Cに設定した加熱円柱の後流を測定した。その結果,1)円柱投影面積内で最も活発に熱エネルギー輸送が行われている,2)熱エネルギーが輸送されている範囲は,運動エネルギーが輸送されている範囲とほぼ一致する,3)プロングの影響により渦流領域内では鉛直方向平均速度の符号が逆転する,4)レイノルズ応力の鉛直方向分布には,加熱による影響は見られない,5)後流中心では全ての相関係数の値がほぼ0になるなどがわかった。

シソーラス用語： *円柱 ,  *計測 ,  *流れ場 ,  流速計 ,  *加熱 ,  エネルギー ,  Reynolds応力 ,  垂直方向 ,  運動エネルギー ,  エネルギー輸送 ,  熱エネルギー ,  鉛直方向 ,  *後流 ,  *柱 ,  *構造要素 ,  力学量
準シソーラス用語： *伴流 ,  二線式温度流速計

分類 (1件)： 物体の周りの流れ  (BC02040N)

タイトルに関連する用語 (3件)： プローブ ,  円柱 ,  後流