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J-GLOBAL ID：201202223578954810   整理番号：12A1050376

高温蒸着および酸素雰囲気中のアニーリングによるアナターゼTiO₂の調製

Preparation of Anatase-TiO₂ by Elevated-Temperature Deposition and Annealing in Oxygen Ambient

著者 (2件)： TAGAWA Toshinari (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Sci. and Engineering, Kansai Univ., JPN) ,  NAKAMURA Kazuhiro (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Engineering Sci., Kansai Univ., JPN)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 10  ページ： 186-189 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二酸化チタン(TiO₂)膜を,室温(T_sub=R.T.)および高温(T_sub=300°C)でRFスパッタリングを用いてシリコン基板上に蒸着した。蒸着後,TiO₂膜を種々の温度(400~900°C)において,ArおよびO₂雰囲気中で1時間アニーリングし,アナターゼからのルチルへの相転移をXRDスペクトルにより調べた。T_sub=300°Cで蒸着したTiO₂膜中のアナターゼの重量比率は,600°C以下の温度でアニールすると,T_sub=R.Tで蒸着した膜中よりも大きかった。TiO₂膜をT_sub=R.T.またはT_sub=300°Cで蒸着するかどちらかでArとO₂アニーリング間の相異はあまりなかった。O₂雰囲気中のアニーリングは,本研究の実験条件を用いて,膜中のアナターゼTiO₂を得るために効果的でなかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化チタン ,  ケイ素 ,  基板 ,  *RFスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  X線回折 ,  雰囲気 ,  酸素 ,  アルゴン ,  *熱処理 ,  相変態 ,  結晶構造 ,  固相 ,  *アナターゼ型結晶 ,  *ルチル型結晶 ,  温度依存性 ,  フォトニックバンドギャップ
準シソーラス用語： シリコン ,  *加熱処理 ,  固相転移 ,  光バンドギャップ ,  酸素雰囲気

分類 (5件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固相転移  (BL04020G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 蒸着 ,  酸素雰囲気 ,  アニーリング ,  アナターゼ ,  TiO2 ,  調製