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J-GLOBAL ID：201202223706784094   整理番号：12A0664502

透明導電性酸化物の空間変調界面特性 ホスホン酸自己集合単分子層による仕事関数のパターン形成

Spatially Modulating Interfacial Properties of Transparent Conductive Oxides: Patterning Work Function with Phosphonic Acid Self-Assembled Monolayers

著者 (5件)： KNESTING Kristina M. (Univ. Washington, Washington, USA) ,  HOTCHKISS Peter J. (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  MACLEOD Bradley A. (Univ. Washington, Washington, USA) ,  MARDER Seth R. (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  GINGER David S. (Univ. Washington, Washington, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 24  号： 5  ページ： 642-646  発行年： 2012年02月02日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フォトリソグラフィーによってポリジメチルシロキサン表面に直径5μmのドット形凸パターンを形成し,これをスタンプとしてITO基板上にペンタフルオロベンジルホスホン酸(F₅BnPA)をマイクロコンタクトプリントした後に140°Cで5分間加熱して自己集合単分子層を形成させた。原子間力顕微鏡法および走査型Kelvinプローブ顕微鏡法によってITO基板上のF₅BnPA自己集合単分子層による接触ポテンシャル差のドットパターンを確認した。F₅BnPA/ITO上に市販ルミネセンス重合体スーパーイエローを発光層とする発光ダイオードを作製し,エレクトロルミネセンスのドットパターンを得ることができた。

シソーラス用語： *ホスホン酸 ,  *単分子層 ,  印刷 ,  ポリジメチルシロキサン ,  酸化インジウムスズ ,  芳香族フッ素化合物 ,  発光ダイオード ,  *パターン形成 ,  *仕事関数
準シソーラス用語： ITO ,  マイクロコンタクトプリント法 ,  高分子発光ダイオード ,  *自己集合単分子層

分類 (3件)： 固-固界面  (CB12060M) ,  有機りん化合物  (CF08040N) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

物質索引 (1件)： 2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルホスホン酸

タイトルに関連する用語 (7件)： 透明導電性酸化物 ,  空間変調 ,  界面特性 ,  ホスホン酸 ,  自己集合単分子層 ,  仕事関数 ,  パターン形成