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J-GLOBAL ID:201202224178021721   整理番号:12A0727958

Al-ドープZn1-xCdxO薄膜の構造,光学的および電気的特性に及ぼす熱処雰囲気の影響

Effect of annealing atmosphere on structural, optical and electrical properties of Al-doped Zn1-xCdxO thin films
著者 (6件):
資料名:
巻: 62  号:ページ: 344-350  発行年: 2012年06月 
JST資料番号: W0812A  ISSN: 0928-0707  CODEN: JSGTEC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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1at.%Al-ドープZn1-xCdxO(x=0~8at.%)薄膜をゾル-ゲル法によりガラス基板上に作製した。共ドープ膜はZnOの六方晶系ウルツ鉱型構造を保持し優先c軸配向を示した。熱処理雰囲気(真空及び窒素)が(Cd,Al)-共ドープZnO薄膜の光学的および電気的特性に及ぼす影響を透過スペクトルおよび電気測定用いて調べた。共ドープ膜の透過率は,真空中の熱処理により明らかに劣化し,窒素熱処理で70~80%強化された。キャリア濃度とHall移動度は,両方とも増加し,抵抗率はAl-ドープZn1-xCdxOがX=4%(真空中)とx=6%(窒素)の異なる臨界濃度以下でバンドギャップが縮小して減少した。バンドギャップの修正と共にCdドーピングにより導電性も改善されることが明らかになった。光学的および電気的特性のばらつきはさまざまな雰囲気中の結晶化度と酸素空孔の濃度の変化の両方に起因した。透過率および導電性の観点から,透明導電酸化物(TCO)の要件を満たすために,窒素熱処理は,真空熱処理より(Cd,Al)-共ドープZnOに対するより効果的な後熱処理方法と思われる。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  ガラスの製造 

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