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J-GLOBAL ID：201202224566724980   整理番号：12A0098021

ナノ結晶性TiO₂膜の濡れ性調整

Tailoring the wettability of nanocrystalline TiO₂ films

著者 (7件)： LIANG Qiyu (Inst. of Heavy Ion Physics, State Key Lab. of Nuclear Physics and Technol., Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  CHEN Yan (Inst. of Heavy Ion Physics, State Key Lab. of Nuclear Physics and Technol., Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  FAN Yuzun (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, P.O. Box 603 ...) ,  HU Yong (Inst. of Heavy Ion Physics, State Key Lab. of Nuclear Physics and Technol., Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  WU Yuedong (Inst. of Heavy Ion Physics, State Key Lab. of Nuclear Physics and Technol., Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  ZHAO Ziqiang (Inst. of Heavy Ion Physics, State Key Lab. of Nuclear Physics and Technol., Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  MENG Qingbo (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics, Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, P.O. Box 603 ...)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 258  号： 7  ページ： 2266-2269  発行年： 2012年01月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ結晶性TiO₂膜の水接触角(WCA)をフルオロアルキルシラン(FAS)修飾と光触媒リソグラフィーにより調整した。FAS修飾は,表面をWCAが~156°の疎水性にしたが,UV照射は表面をWCAが~0°の親水性に変えた。疎水性と親水性はともに,表面粗さによって増強された。濡れ性はFAS溶液の濃度と浸漬時間,あるいはUV照射強度や照射時間を変えて調整できた。加えて,フォトマスクの援用により疎水性-親水性マイクロパターンを領域選択的ポリスチレン粒子堆積により作製して示せた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 酸化チタン ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  光触媒 ,  *濡れ ,  接触角 ,  *リソグラフィー ,  *脂肪族フッ素化合物 ,  *表面改質 ,  疎水性 ,  親水性 ,  表面粗さ ,  浸漬塗装 ,  フォトマスク ,  *パターン形成 ,  マイクロマシニング ,  ポリスチレン
準シソーラス用語： 二酸化チタン ,  *光触媒リソグラフィ

分類 (4件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノ結晶 ,  TiO2 ,  濡れ性