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J-GLOBAL ID：201202224657529969   整理番号：12A1714806

磁性ナノ粒子薄膜を形成したSQUIDの閾値特性と共振ステップ

Threshold characteristics and resonance steps of SQUIDS with magnetic nanoparticle films

著者 (5件)： 伊藤大 (名古屋大 大学院) ,  奥村崇之 (名古屋大 大学院) ,  谷口壮耶 (名古屋大 大学院) ,  赤池宏之 (名古屋大 大学院) ,  藤巻朗 (名古屋大 大学院)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 112  号： 262(SCE2012 17-24)  ページ： 13-18  発行年： 2012年10月18日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本誌では,磁性ナノ粒子膜を形成したSQUIDのインダクタンス変化のナノ粒子膜厚依存性及び共振ステップについて述べる。磁性ナノ粒子膜は,平均粒径5nmのFe₃O₄磁性ナノ粒子溶液の溶媒を蒸発させることにより形成した。SQUIDは,インダクタンス評価用としてワッシャー型を,共振ステップ評価用として縦型を用いた。磁性ナノ粒子膜の膜厚効果を調べたところ,膜厚に比例するインダクタンスの増加があり,最大で19.7%の増加率を得た。また,共振ステップの変化を調べたところ,SQUIDのLC積(SQUIDインダクタンスL,SQUID等価接合容量C)が最大163%増加していることが分かった。(著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  *SQUID ,  インダクタンス ,  依存性 ,  閾値 ,  *磁性薄膜 ,  酸化鉄
準シソーラス用語： *ナノ粒子薄膜 ,  *磁性ナノ粒子 ,  接合容量 ,  膜厚依存性 ,  四三酸化鉄

分類 (2件)： Josephson接合・素子  (BM04043E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (5件)：

• Chang, W.H. The inductance of superconducting strip transmission linejl. J . Appl. Phys. 1979, 50, 8129-8134
• Igarashi, M. SFQ Pulse Transfer Circuits Using Inductive Coupling for Current RecyclingI. IEEE Trans. Appl. Supercond. 2009, 19, 3, 649-652
• Held, R. Superconducting memory based on ferromagnetism. Appl. Phys. Lett'. 2006, 89, 163509
• Schmid, Gunter. Nanoparticles: From Theopry to Application. 2004, CH.3
• 矢野峻. 磁性ナノ、検子膜f e 対するS Q U I D インダクタンスの恣答vol.111no.2303. 信学技報. 2011, 111, 230, 13-17

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁性ナノ粒子 ,  薄膜 ,  SQUID ,  閾値 ,  共振