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J-GLOBAL ID：201202224756202750   整理番号：12A1391051

光学的応用のための三角形エラストマースタンプ 近接場位相シフトフォトリソグラフィー,3D近接場パターニング,浮き出し模様の反射防止膜およびSERSセンシング

Triangular Elastomeric Stamps for Optical Applications: Near-Field Phase Shift Photolithography, 3D Proximity Field Patterning, Embossed Antireflective Coatings, and SERS Sensing

著者 (9件)： BOWEN Audrey M. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  MOTALA Michael J. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  LUCAS J. Matthew (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  GUPTA Sidhartha (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  BACA Alfred J. (U.S. Navy, CA, USA) ,  MIHI Agustin (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  ALIVISATOS A. Paul (Univ. California at Berkeley, CA, USA) ,  BRAUN Paul V. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  NUZZO Ralph G. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
資料名： Advanced Functional Materials  (Advanced Functional Materials)
巻： 22  号： 14  ページ： 2927-2938  発行年： 2012年07月24日 
JST資料番号： W1336A  ISSN： 1616-301X  CODEN： AFMDC6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コーンあるいはプリズムといった断面が三角形の周期的構造は様々な応用が期待され,その作製を目的とした多くのリソグラフィー法が提案されている。本研究では,特にコーンおよび三角形プリズム状断面積を有するエラストマースタンプを作製するために,デカール転写リソグラフィーを用いた。ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)を用いて作製したスタンプを使用して,いくつかの光学的応用の可能性を示した。近接場位相シフトフォトリソグラフィーを用いた3次元(3D)フォトレジストパターニング,マスクを用いない3D近接場ナノパターニングによる周期的ポーラス高分子構造,浮き出し模様の反射防止膜および表面増強ラマン分光検出用基板の作製を行い,その有効性を実証した。

シソーラス用語： 周期構造 ,  微細構造 ,  アレイ ,  *ポリジメチルシロキサン ,  微細加工 ,  フォトリソグラフィー ,  オゾン ,  エッチング ,  活性化 ,  転写 ,  剥離 ,  円錐 ,  プリズム ,  機能材料 ,  *反射防止膜 ,  表面増強Raman分光法 ,  基板

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の光デバイス  (BD06060O)

タイトルに関連する用語 (13件)： 光学 ,  応用 ,  三角形 ,  エラストマー ,  スタンプ ,  近接場 ,  位相シフト ,  フォトリソグラフィー ,  3D ,  パターニング ,  模様 ,  反射防止膜 ,  センシング