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J-GLOBAL ID:201202225299104620   整理番号:12A1731453

高性能水平型ゲートオールアラウンド シリコンナノワイヤ電界効果トランジスタ

High performance horizontal gate-all-around silicon nanowire field-effect transistors
著者 (5件):
資料名:
巻: 23  号: 39  ページ: 395202,1-8  発行年: 2012年10月05日 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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水平懸垂シリコンナノワイヤを用いたゲートオールアラウンド(GAA)電界効果トランジスタの新しい作製法を示すとともに,デザインしたデバイスを作製し,トランジスタとしての高性能特性を得た。すなわち,高オン電流密度(約150μAμm-1),高オンオフ電流比(106),低閾値電圧(約-0.4V),低サブ閾値勾配(約100mV/dec)および大きな相互コンダクタンス(gm≒9.5μS)を得た。このような高い性能はゲートオールアラウンドの強固な静電結合によるものであり,これによってSchottky障壁有効高さがかなり低下することを実験で確認した。
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分類 (1件):
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トランジスタ 
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