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J-GLOBAL ID:201202226178503036   整理番号:12A1523489

ニオブドープ二酸化チタンにおける電荷分離に対するニオブ表面偏析の効果

The Impact of Niobium Surface Segregation on Charge Separation in Niobium-Doped Titanium Dioxide
著者 (3件):
資料名:
巻: 116  号: 39  ページ: 20923-20929  発行年: 2012年10月04日 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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UV照射間での電荷分離に対するニオブ(Nb)表面偏析の効果について調べ,偏析による組成勾配を検討した。SIMS深さプロファイルから,本研究での条件においてNbドーパントは蓄積あるいは表面および表面に近い領域から激減し,電荷分離に大きく影響を及ぼすことがわかった。特に,酸素活性が非常に小さく(p(O2)~10-15Pa),高温である場合にNbドープ二酸化チタン(TiO2)による電荷分離が進行した。表面および表面に近い領域からのNb除去により照射応答を速めることができると考えられる。
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分類 (2件):
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光化学一般  ,  塩基,金属酸化物 
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