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J-GLOBAL ID:201202226220073551   整理番号:12A0385801

波長の異なるフェムト秒レーザパルスで製作された表面微細構造化シリコンの発展の相違

Differences in the evolution of surface-microstructured silicon fabricated by femtosecond laser pulses with different wavelength
著者 (8件):
資料名:
巻: 51  号:ページ: 635-639  発行年: 2012年02月10日 
JST資料番号: B0026B  ISSN: 1559-128X  CODEN: APOPAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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波長の異なるフェムト秒レーザパルスで製作された表面微細構造化シリコンの発展の相違を,照射レーザエネルギーの関数として実験的に研究した。この結果,シリコン材料で吸収されたレーザエネルギーが同じである場合,波長の短いレーザパルスでは,表面微細構造化シリコンがより少ないレーザエネルギーで作れるが,スパイク高さは波長の長いレーザパルスに比べて非常に低いことが分かった。これはレーザパルスの侵入深度がレーザ波長の増加で指数関数的に増大するからであった。さらに,波長の特定された二つのレーザパルスと吸収効率の特定されてシリコンにおいて,スパイク高さと照射レーザエネルギーとの比例関係を決定した。特に,800nmのレーザパルスのエネルギーが400nmのレーザパルスに比べて8倍大きい場合,平均スパイク高さは3倍であった。これらの結果は,微細構造化シリコンの高速で最適な形態調製での利点であった。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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レーザの応用  ,  レーザ照射・損傷 

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