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J-GLOBAL ID：201202227165190035   整理番号：12A1254720

X線ナノ回折によるナノ結晶薄膜におけるひずみおよびミクロ構造の発達の解明

X-ray nanodiffraction reveals strain and microstructure evolution in nanocrystalline thin films

著者 (10件)： KECKES J. (Dep. of Materials Physics and Christian Doppler Lab. for Application Oriented Coating Dev., Montanuniversitaet ...) ,  BARTOSIK M. (Dep. of Materials Physics and Christian Doppler Lab. for Application Oriented Coating Dev., Montanuniversitaet ...) ,  DANIEL R. (Dep. of Physical Metallurgy and Materials Testing, Montanuniversitaet Leoben, A-8700 Leoben, AUT) ,  MITTERER C. (Dep. of Physical Metallurgy and Materials Testing, Montanuniversitaet Leoben, A-8700 Leoben, AUT) ,  MAIER G. (Materials Center Leoben GmbH, A-8700 Leoben, AUT) ,  ECKER W. (Materials Center Leoben GmbH, A-8700 Leoben, AUT) ,  VILA-COMAMALA J. (Paul Scherrer Inst. (PSI), CH-5232 Villigen, CHE) ,  DAVID C. (Paul Scherrer Inst. (PSI), CH-5232 Villigen, CHE) ,  SCHOEDER S. (ESRF, F-38043 Grenoble Cedex 9, FRA) ,  BURGHAMMER M. (ESRF, F-38043 Grenoble Cedex 9, FRA)
資料名： Scripta Materialia  (Scripta Materialia)
巻： 67  号： 9  ページ： 748-751  発行年： 2012年11月 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 1359-6462  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線ナノ回折はナノ結晶薄膜におけるひずみおよびミクロ構造の発達を解明するナノ結晶薄膜中のひずみおよびミクロ構造の深さ勾配の定量的なキャラクタリゼーションのための新しいシンクロトロンX線ナノ回折法を導入している。実験は,15μm厚さのCrN薄膜について,100および250nm直径の単色化したX線ビームによって行った。結果は,適用した蒸着条件および複雑な残量ひずみ深さプロファイルとステップ状形状および上に重ねた低振幅振動の間の相関を明らかにしている。ミクロ構造解析において,多重粒核生成サイト,スムーズな構造遷移および振動する粒径分布を示す。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *X線回折 ,  *ナノ結晶 ,  *歪 ,  クロム化合物 ,  窒化物 ,  セラミック膜 ,  機械的性質 ,  マグネトロンスパッタリング ,  深さ分布 ,  格子定数 ,  残留応力 ,  *ナノ構造 ,  *超薄膜 ,  勾配 ,  方向 ,  蒸着膜 ,  *スパッタ蒸着 ,  ウエハ【IC】 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： *X線ナノ回折 ,  ケイ素基板 ,  シンクロトロンX線回折 ,  ナノ結晶薄膜 ,  *ナノ薄膜 ,  深さ方向 ,  窒化クロム ,  *歪勾配

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の無機化合物の結晶構造  (BK07030J)

タイトルに関連する用語 (6件)： X線 ,  回折 ,  ナノ結晶薄膜 ,  ひずみ ,  ミクロ構造 ,  発達