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J-GLOBAL ID：201202227486474906   整理番号：12A0754499

誘電体材料の現状と将来-次世代のハイパー誘電材料の創成をめざして

著者 (1件)： 和田智志 (山梨大 大学院医学工学総合研究部)
資料名： 未来材料  (Expected Materials for the Future)
巻： 12  号： 5  ページ： 40-46  発行年： 2012年05月10日 
JST資料番号： L4328A  ISSN： 1346-0986  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,現在の誘電体材料の問題点をすべて解消し,さらに誘電特性を向上させたハイパー誘電体材料の創成を目指すための方針を示すことに焦点をあてる。この方針の妥当性を支持するホモエピタキシャル界面およびヘテロエピタキシャル界面を用いた新規誘電体材料についての研究成果を紹介するとともに,その延長にあるハイパー誘電材料の波及効果について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *誘電体 ,  技術革新 ,  *誘電性 ,  *ホモエピタクシー ,  *ヘテロエピタクシー ,  層 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  Curie温度 ,  チタン酸バリウム ,  チタン酸ストロンチウム ,  チタン酸塩 ,  ビスマス化合物 ,  マグネシウム化合物 ,  フェライト ,  鉄化合物
準シソーラス用語： エピタクシー層 ,  チタン酸ビスマス ,  次世代 ,  鉄酸ビスマス ,  *誘電特性

分類 (2件)： 誘電体一般  (BM05010F) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

引用文献 (21件)：

• 1) B. Jaffe, W.R. Cook, Jr. and H. Jaffe: Piezoelectric Ceramics, Academic Press, 1971.
• 2) F. Jona, G. Shirane: Ferroelectric Crystals, Dover, 1993.
• 3) H. Kishi, Y. Mizuno, H. Chazono: Jpn. J. Appl. Phys., 42,1 (2003).
• 4) Y. Kuroiwa, S. Aoyagi, A. Sawada, J. Harada, E. Nishibori, M. Takata, M. Sakata: Phys. Rev. Lett., 87, 2117601 (2001).
• 5) T. Hoshma, S. Wada, Y. Kuroiwa, T. Tsurumi: Appi. Phys. Lett., 93, 192914 (2008).

タイトルに関連する用語 (6件)： 誘電体材料 ,  現状 ,  将来 ,  次世代 ,  誘電材料 ,  創成