文献
J-GLOBAL ID:201202227620261817   整理番号:12A1515492

シリコンナノワイヤにおける可同調性中赤外局在化表面プラズモン共鳴

Tunable Mid-Infrared Localized Surface Plasmon Resonances in Silicon Nanowires
著者 (4件):
資料名:
巻: 134  号: 39  ページ: 16155-16158  発行年: 2012年10月03日 
JST資料番号: C0254A  ISSN: 0002-7863  CODEN: JACSAT  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
蒸気-液体-固体(VLS)技法を経由して合成したシリコンナノワイヤ中にリンドーピングから生じた強い中赤外吸収モードを観測し,系統的に同調した。VLS成長はナノワイヤ伸長が伴う初期インキュベーション段階を含む二段階過程を経由して進めた。両面研磨後真空蒸着したAu触媒薄膜を有するSi(111)基板上で成長するナノワイヤに対してSi2H6がSi原子を供給し,所望の時PCl3をドーピングした。このスペクトル吸収の特徴の角度依存と形状依存性はその場透過赤外分光法を経由して縦方向局在化表面プラズモン共鳴(LSPR)としてその帰属を支持した。ナノワイヤ長(135~1160nm)を変えることによって共鳴周波数変調(740~1620/cm)を伴った。観測した周波数シフトはMie-Gans理論と因果関係にあった。そこでは,1019~1020/cm3の電気的活性ドーパント濃度を指示した。この知見はこの偏在的半導体に光明を集中して非伝統的プラズモン材料の光学的性質を工学する新しい機会を示唆した。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
無機化合物一般及び元素  ,  固体プラズマ 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る