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J-GLOBAL ID:201202228001653960   整理番号:12A1687658

有害物質フリー高機能めっき技術の開発

著者 (8件):
資料名:
号:ページ: 25-28  発行年: 2012年09月 
JST資料番号: L0285B  ISSN: 1349-2608  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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パルス電解Ni-Co-W合金めっき,鉛フリー無電解Ni-P及びNi-W-Bめっきについて,量産に向けた浴管理と皮膜特性の詳細な評価を行った。パルス電解Ni-Co-Wについて,パルス条件及びめっき浴組成の検討により,W含量40wt%以上で無クラックのNi-Co-Wめっき膜を再現性良く作製できた。この皮膜のめっき時の硬さはHv820と工業用Crめっきと同等で,摩擦係数は0.23と工業用Crめっきの1/4程度であった。また,熱処理を行なうことでこの皮膜の硬さはHv1350まで増大した。X線回折の結果から,硬さの増大は,めっき皮膜中にNi-W,Co-W等の金属間化合物が生成したことによると考えられる。一方,鉛フリー無電解Ni-Pめっきでは,浴の大型化を検討し,現在,800lのめっき浴でも概ね安定にめっきできることを確認している。鉛フリー無電解Ni-W-Bめっきについても応力緩和剤の添加条件を検討し,硬さと耐摩耗性に優れ,表面状態が良好なめっき皮膜を得ることができた。また,膜厚はこれまで10μmが最大であったが,30μmの厚付けを実現した。(著者抄録)
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分類 (1件):
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めっき一般 
引用文献 (3件):
タイトルに関連する用語 (3件):
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