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J-GLOBAL ID:201202228343251589   整理番号:12A0456679

InGaZnO TFT関連成膜技術のOLEDパネルへの適用

著者 (7件):
資料名:
号: 76  ページ: 1-7  発行年: 2012年02月29日 
JST資料番号: L3761A  ISSN: 0910-6189  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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有機発光ダイオード(OLED)パネルへの適用に向けたInGaZnO(IGZO)薄膜トランジスタ(TFT)の成膜技術について述べた。OLEDは,電流駆動型であるために,高い移動度が必要とされている。IGZOは,低温成膜が可能,高い移動度,非晶質相による大面積均一性が可能であるとともに,さらに,スパッタリングによる成膜が可能という特徴をもつ。IGZO TFTの量産技術の確立のために,酸素ガス導入方法の最適化と高品質ターゲットの使用により,大型基板上に均一なTFT特性が得られることを実証した。
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分類 (3件):
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トランジスタ  ,  酸化物薄膜  ,  表示機器 
引用文献 (18件):
  • 1) M. Kobayuashi, M. Takei, T. Isobe, T. Kurata, M. Arai, J. Kiyota, S. Ishibashi, T Ono, Y. Sato, S. Sato, J. Nitta and K. Takahashi: ULVAC TECHNICAL JOURNAL, 73 (2010) p.8
  • 2)「美に挑む規格外テレビ」,日経エレクトロニクス,997(2009)p.37
  • 3)「3D映像技標準化の波映画からテレビ,写真まで」,日経エレクトロニクス,1009(2009)p.73
  • 4) JST News, April (2010) p.6
  • 5) S. Takasawa, S. Ishibashi, T. Masuda: ULVAC TECHNICAL JOURNAL, 69 (20008) p.7
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