文献

J-GLOBAL ID：201202229110105147   整理番号：12A1712108

超高コントラストレーザを照射した薄い箔からの低発散MeVイオンビームの発生

Generation of low-divergence megaelectronvolt ion beams from thin foil irradiated with an ultrahigh-contrast laser

著者 (14件)： WANG W. P. (State Key Lab. of High Field Laser Physics, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  ZHANG H. (State Key Lab. of High Field Laser Physics, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  WU B. (Sci. and Technol. on Plasma Physics Lab., Laser Fusion Res. Center, CAEP, Mianyang 621900, CHN) ,  JIAO C. Y. (Sci. and Technol. on Plasma Physics Lab., Laser Fusion Res. Center, CAEP, Mianyang 621900, CHN) ,  WU Y. C. (Sci. and Technol. on Plasma Physics Lab., Laser Fusion Res. Center, CAEP, Mianyang 621900, CHN) ,  ZHU B. (Sci. and Technol. on Plasma Physics Lab., Laser Fusion Res. Center, CAEP, Mianyang 621900, CHN) ,  DONG K. G. (Sci. and Technol. on Plasma Physics Lab., Laser Fusion Res. Center, CAEP, Mianyang 621900, CHN) ,  HONG W. (Sci. and Technol. on Plasma Physics Lab., Laser Fusion Res. Center, CAEP, Mianyang 621900, CHN) ,  GU Y. Q. (Sci. and Technol. on Plasma Physics Lab., Laser Fusion Res. Center, CAEP, Mianyang 621900, CHN) ,  SHEN B. F. (State Key Lab. of High Field Laser Physics, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  XU Y. (State Key Lab. of High Field Laser Physics, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  LENG Y. X. (State Key Lab. of High Field Laser Physics, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  LI R. X. (State Key Lab. of High Field Laser Physics, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  XU Z. Z. (State Key Lab. of High Field Laser Physics, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 101  号： 21  ページ： 214103-214103-5  発行年： 2012年11月19日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ピーク強度が約10¹⁸W/cm²の超高コントラストレーザを薄い箔に照射して,発散の小さな(10°)MeVイオンビームを実験により発生させた。高コントラスト(~10¹¹)レーザは第二高調波発生過程と非線形光パラメトリック増幅に基づくパルスクリーナにより得た。箔密度,箔厚,箔の前面と背面の密度勾配の影響を二次元particle-in-cell(PIC)シミュレーションにより調べた。最高エネルギーと発散のビームパラメータは箔の背面の密度勾配に強く依存した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *イオンビーム ,  *レーザ照射 ,  *光増幅 ,  第二高調波発生 ,  勾配 ,  計算機シミュレーション ,  発散
準シソーラス用語： ビーム発散 ,  *光パラメトリック増幅 ,  密度勾配

分類 (1件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高コントラスト ,  レーザ ,  箔 ,  発散 ,  イオンビーム