文献

J-GLOBAL ID：201202229128429292   整理番号：12A1738427

UV-NILを用いたグラフェンのナノ構造化およびマイクロ構造化

Nano- and microstructuring of graphene using UV-NIL

著者 (16件)： BERGMAIR Iris (PROFACTOR GmbH, Steyr-Gleink, AUT) ,  HACKL Wolfgang (PROFACTOR GmbH, Steyr-Gleink, AUT) ,  LOSURDO Maria (Inst. of Inorganic Methodologies and of Plasmas, CNR, Bari, ITA) ,  HELGERT Christian (Friedrich-Schiller-Univ. Jena, Jena, DEU) ,  HELGERT Christian (Australian National Univ., Canberra, AUS) ,  ISIC Goran (Belgrade Univ., Belgrade, ZZZ) ,  ROHN Michael (PROFACTOR GmbH, Steyr-Gleink, AUT) ,  JAKOVLJEVIC Milka M (Belgrade Univ., Belgrade, ZZZ) ,  MUELLER Thomas (Vienna Univ. Technol., Vienna, AUT) ,  GIANGREGORIO Maria (Inst. of Inorganic Methodologies and of Plasmas, CNR, Bari, ITA) ,  KLEY Ernst-Bernhard (Friedrich-Schiller-Univ. Jena, Jena, DEU) ,  FROMHERZ Thomas (Johannes Kepler Univ. Linz, Linz, AUT) ,  GAJIC Rados (Belgrade Univ., Belgrade, ZZZ) ,  PERTSCH Thomas (Friedrich-Schiller-Univ. Jena, Jena, DEU) ,  BRUNO Giovanni (Inst. of Inorganic Methodologies and of Plasmas, CNR, Bari, ITA) ,  MUEHLBERGER Michael (PROFACTOR GmbH, Steyr-Gleink, AUT)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 23  号： 33  ページ： 335301,1-6  発行年： 2012年08月24日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここでは,UVナノインプリントリソグラフィーによってグラフェンのマイクロ構造化とナノ構造化を初めて実証する。SiO₂基板上の剥離グラフェン,多結晶ニッケルおよび銅上に化学蒸着(CVD)によって堆積したグラフェン,そして誘電体基板上に転送されたCVDグラフェンを用いて,この技術が種々のタイプの基板上のグラフェン大面積パターニング(2×2cm²)に適していることを実証した。ウエハスケールプロセスで20nmまでの寸法サイズを持つマイクロメータおよびナノメータサイズグラフェン構造の実証作製手順はグラフェンに基づく光学および電子応用の低コストおよび高スループット製造への道を開く。プロセスを行ったグラフェン膜は4.6×10³cm²V^-1s^-1までの電子移動度を示す。このことは現在の文献によれば現状の電子品質を示すことを確認する。

シソーラス用語： *押付成形 ,  *ナノメータ加工 ,  紫外線 ,  炭素材 ,  ナノ構造 ,  Ramanスペクトル ,  走査電子顕微鏡 ,  *半導体プロセス ,  リソグラフィー ,  グラフェン
準シソーラス用語： UVナノインプリント

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： NIL ,  グラフェン ,  ナノ構造 ,  マイクロ構造