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J-GLOBAL ID：201202229753543850   整理番号：12A0260942

紫外光照射下における酸化チタン薄膜の電子と正孔の移動度

Mobilites of Electron and Hole in TiO₂ Thin Films under UV Light Irradiation

著者 (3件)： 渡邉悠介 (名城大 大学院理工学研究科) ,  村本裕二 (名城大 大学院理工学研究科) ,  清水教之 (名城大 大学院理工学研究科)
資料名： 電気学会誘電・絶縁材料研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： DEI-12  号： 1-12  ページ： 35-39  発行年： 2012年01月20日 
JST資料番号： Z0908B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 酸化チタン(TiO₂)は紫外光を吸収することで,光触媒として働く。これは紫外光によって価電子帯の電子が伝導帯に励起されると同時に正孔が生成され,これら電子と正孔が表面で酸化,還元反応を起こすことによる。従って光触媒活性とTiO₂の電子的特性(抵抗率,キャリア密度,移動度)は密接に関係すると考えられる。本研究では,電子と正孔を分離して,電子による電流と正孔による電流を測定した。実験結果から,電子の移動度と正孔の移動度の値が近い,つまりμ_e≒μ_hであることが示された。さらに,Time of Flight法と組み合わせることで,電子,正孔移動度の測定を試みた。(著者抄録)

シソーラス用語： *紫外線照射 ,  *酸化チタン ,  *キャリア移動度 ,  正孔 ,  電子 ,  光触媒 ,  酸化還元反応 ,  キャリア密度
準シソーラス用語： 紫外光照射 ,  正孔移動度 ,  電子移動度

分類 (1件)： 半導体と絶縁体の電気伝導一般  (BM03041P)

引用文献 (12件)：

• [1] Amy L. Linsebigler, Guangquan Lu, and John T. Yates, Jr., "Photocatalysis on TiO₂ Surfaces: Principles, Mechanisms, and Selected Results", Chem. Rev., Vol. 95 (3), pp.735-758 (1995)
• [2] Yusuke Watanabe, Yuji Muramoto, Noriyuki Shimizu, "Electronic Conduction Properties of TiO₂ Thin Films under UV Light Irradiation", 2011 Annual Report-CEIDP, pp.117-120 (2011)
• [3] 渡邉悠介,村本裕二,清水教之,"紫外光照射下における酸化チタン薄膜のホール電圧特性",平成23年電気学会全国大会,2-058(2011)
• [4] 渡邉悠介,村本裕二,清水教之,"紫外光照射下における酸化チタン薄膜の電子的特性",電子情報通信学会技術研究報告,Vol.110, No.365,pp39-43(2011)
• [5] Yusuke Watanabe, Yuji Muramoto, Noriyuki Shimizu, "Electronic Properties of TiO₂ Thin Films under UV Light Irradiation", 2010 Annual Report-CEIDP, pp141-144(2010)

タイトルに関連する用語 (5件)： 紫外光照射 ,  酸化チタン薄膜 ,  電子 ,  正孔 ,  移動度