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J-GLOBAL ID：201202229891903973   整理番号：12A0810141

PES(ポリエーテルスルホン)表面の酵素で触媒された修飾:BSA,デキストリンおよびタンニンの吸着の減少

Enzyme-catalyzed modification of PES surfaces: Reduction in adsorption of BSA, dextrin and tannin

著者 (9件)： NADY Norhan (Lab. of Food Process Engineering, Wageningen Univ., Bomenweg 2, 6703 HD Wageningen, NLD) ,  NADY Norhan (Lab. of Organic Chemistry, Wageningen Univ., Dreijenplein 8, 6703 HB Wageningen, NLD) ,  NADY Norhan (Polymeric Material Res. Dep., Advanced Technol. and New Materials Res. Inst. (ATNMRI), New Boarg El-Arab City 21934 ...) ,  SCHROEEN Karin (Lab. of Food Process Engineering, Wageningen Univ., Bomenweg 2, 6703 HD Wageningen, NLD) ,  FRANSSEN Maurice C.R. (Lab. of Organic Chemistry, Wageningen Univ., Dreijenplein 8, 6703 HB Wageningen, NLD) ,  FOKKINK Remco (Lab. of Physical Chemistry and Colloid Sci., Wageningen Univ., Dreijenplein 6, 6703 HB Wageningen, NLD) ,  MOHY ELDIN Mohamed S. (Polymeric Material Res. Dep., Advanced Technol. and New Materials Res. Inst. (ATNMRI), New Boarg El-Arab City 21934 ...) ,  ZUILHOF Han (Lab. of Organic Chemistry, Wageningen Univ., Dreijenplein 8, 6703 HB Wageningen, NLD) ,  BOOM Remko M. (Lab. of Food Process Engineering, Wageningen Univ., Bomenweg 2, 6703 HD Wageningen, NLD)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 378  号： 1  ページ： 191-200  発行年： 2012年07月15日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(エーテルスルホン)は4-ヒドロキシ安息香酸やガリウム酸のようなマイルドで環境的に優しい成分を用いてフレキシブルなやり方で修飾することができるが,これは酵素ラッカーゼによる触媒作用により表面に付着できる。このことから主に線状高分子鎖(低濃度で短い修飾時間での4-ヒドロキシ安息香酸やガリウム酸に関して)やネットワーク(高濃度で長い暴露時間のガリウム酸に関して)のグラフトが起こる。反応は特定の時間で終結し,修飾表面は,in situ反射光測定とAFM可視化を用いて,BSA,デキストリン,およびタンニンの吸着に関してテストする。短い修飾時間では,BSA,デキストリン,およびタンニンの吸着は著しく減少する。しかしながら,修飾時間がより長くなると,両基板について吸着は再び増大する。短い修飾時間での修飾表面上での接触角が減少し(より親水性であることを意味する),より長い修飾時間では同一の低い値を保つことから,親水性は測定の差異を決定する唯一の因子ではない。より長い修飾時間では,層内反応性は架橋(特にガリウム酸に関して),分岐(4-ヒドロキシ安息香酸に関して)および/または高分子鎖の崩壊の量を増大させるであろう。このことがよりコンパクトな層を形成し,これが蛋白質吸着の増大をもたらす。修飾は,明らかに蛋白質,ポリサッカライドおよびポリフェノールによるファウリングを減少させる可能性があり,このことが表面モルフォロジーに関係できることが分った。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリエーテルスルホン ,  ガリウム化合物 ,  酸素酸 ,  *酵素 ,  化学修飾 ,  *デキストリン ,  *タンニン ,  吸着 ,  還元 ,  ジフェノールオキシドレダクターゼ ,  接触角 ,  多糖類 ,  多価フェノール ,  汚損 ,  表面構造 ,  *触媒 ,  架橋【高分子】 ,  枝分れ ,  *血清アルブミン
準シソーラス用語： *ウシ血清アルブミン ,  ガリウム酸 ,  グラフト結合 ,  ファウリング ,  ラッカーゼ ,  *酵素触媒 ,  触媒作用 ,  表面モルフォロジー

分類 (3件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  酵素一般  (EB09010D) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

物質索引 (1件)： 4-ヒドロキシ安息香酸

タイトルに関連する用語 (8件)： ポリエーテルスルホン ,  酵素 ,  触媒 ,  修飾 ,  BSA ,  デキストリン ,  タンニン ,  吸着