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J-GLOBAL ID：201202229995933874   整理番号：12A1312601

単斜晶ジルコニアとハフニアとの2種類の同形体のMeVイオン照射の下での相安定性

Phase stability of the two isomorphs monoclinic zirconia and hafnia under MeV ion irradiation

著者 (1件)： BENYAGOUB A. (Centre de Rech. sur les Ions, les Materiaux et la Photonique (CIMAP, ex CIRIL-GANIL), CEA-CNRS-ENSICAEN-Universite ...)
資料名： Acta Materialia  (Acta Materialia)
巻： 60  号： 16  ページ： 5662-5669  発行年： 2012年09月 
JST資料番号： A0316A  ISSN： 1359-6454  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ジルコニアとハフニアは温度,圧力又は高速(すなわちGeV)重イオン照射の下で同じような相遷移を示すことで知られている。本研究では,低エネルギーイオン照射による相遷移を支配する機構を理解するために,どちらも単斜晶のジルコニアとハフニアを5-MeV Iイオンで照射した。驚くべきことに,単斜晶のジルコニアが正方晶相に容易に変態するのに,単斜晶ハフニアは原子当たり約19置換の照射を行っても正方晶相に変態しなかった。このような相変態がジルコニアにあってハフニアにはないということは,強力な励起に対する両酸化物の挙動が同じでないことを明確にしている。また,この事実は,低エネルギーイオン照射による相変態の機構を説明する論理を検討するのに大きな制約となる。これら酸化物の単斜晶から正方晶相への変態が酸素空孔に起因する可能性が高く,その濃度が一定の値に達した時に変態が生じることがわかった。ハフニアに相変態がないのは,これら空孔欠陥の拡散率が高いために,その濃度が高くならないことで説明できる。同様の機構によって,長時間の低エネルギーイオン照射の下での正方晶ジルコニアの高い相安定性を説明することができる。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 単斜晶系 ,  *酸化ジルコニウム ,  *酸化ハフニウム ,  イオン照射 ,  相安定性 ,  *重イオン照射 ,  相転移 ,  正方晶系 ,  相変態 ,  空格子点 ,  拡散係数

分類 (3件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 単斜晶 ,  ジルコニア ,  ハフニア ,  形体 ,  イオン照射 ,  相安定性