抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本研究は,還元雰囲気,純8YDZに比べて50倍速く進行する転移下で,Ni含有8.5mol% Y
2O
3ドープZrO
2 (8YDZ)のイオン伝導率の加速劣化の解明に焦点を合わせる。稼働条件(還元雰囲気)下,このYDZの微細構造的及び化学的進化を特性評価するため,高性能負極とNiO/YDZ薄膜試料(厚膜8YDZ及び10YDZ電解質上のNiO薄膜)との比較研究を行なった。微結晶性YDZ中へのNi (>100μm)の非常に深い内部拡散が,1400°C,5時間(空気中)の焼結後示された。従って,NiO と8YDZとが高温,例えば,半電池(薄膜電解質つき負極)で共焼結するときはいつでもこのようなNi含有8YDZが生成することが予想される。更に,短時間スケールでNi含有8YDZのスピノーダル分解を特定し従来型及び分析型透過型電子顕微鏡(TEM)により調べた。これはナノスケールでの強化学分解並びに微細構造粗大化より成る。分解速度はホスト陽イオンの移動度に直接関連するのでこれらは溶解Niにより高められなければならない。従って,この説明は,還元雰囲気下での電子捕獲による個々のNi種の近傍に生ずると予想される局在化ひずみ場を基にしている。クーロン相互作用は弱められ(YDZ格子の膨張のため),一方,イオンホッピングのポテンシャル障壁,従って,高陽イオン移動度まで下げて,格子振動は高められることを提唱する。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.