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J-GLOBAL ID：201202230055322549   整理番号：12A0899440

多層グラフェン酸化物膜の室温準安定

Room-temperature metastability of multilayer graphene oxide films

著者 (10件)： KIM Suenne (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  ZHOU Si (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  HU Yike (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  ACIK Muge (Univ. Texas at Dallas, Texas, USA) ,  CHABAL Yves J. (Univ. Texas at Dallas, Texas, USA) ,  BERGER Claire (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  BERGER Claire (Centre National de la Rech. Scientifique-Inst. Neel, Grenoble, FRA) ,  HEER Walt de (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  BONGIORNO Angelo (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA) ,  RIEDO Elisa (Georgia Inst. of Technol., Georgia, USA)
資料名： Nature Materials  (Nature Materials)
巻： 11  号： 6  ページ： 544-549  発行年： 2012年06月 
JST資料番号： W1364A  ISSN： 1476-1122  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェン酸化物(GO)は,ナノエレクトロニクス,センサー,高分子コンポジットおよび触媒などへの応用が期待されている。しかしながら,その応用に不可欠な,グラフェン酸化物の化学およびその外的刺激に対する応答は明らかにはされていない。本研究では,多層グラフェン酸化物膜が,室温で約35dの緩和時間で自発的化学修飾と還元を受けている準安定材料であることを明らかにした。Hummers法で作製したエピタキシャルグラフェンを酸化することによって,多層GO試料を作製した。実験にはXPS測定を用い,密度関数理論(DFT)による理論計算との比較を行った。作製時にGO中に吸収されているHはエポキシド基と反応し,次いで水酸基と反応して水を形成することなどを明らかにした。

シソーラス用語： 酸化物 ,  *炭素材 ,  多層膜 ,  緩和時間 ,  貯蔵安定性 ,  計算化学 ,  密度汎関数法 ,  基 ,  界面化学 ,  グラフェン
準シソーラス用語： *酸化グラフェン ,  官能基

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 多層グラフェン ,  酸化物膜 ,  室温