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J-GLOBAL ID：201202230147833604   整理番号：12A1437470

IRレーザーアシストCVD法を用いたYBa₂Cu₃O_7-δ薄膜の高速成膜とその超電導特性の評価

著者 (5件)： 宮田成紀 (超電導工学研) ,  松瀬研也 (超電導工学研) ,  衣斐顕 (超電導工学研) ,  和泉輝郎 (超電導工学研) ,  塩原融 (超電導工学研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.12P-A2-10  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *YBCO薄膜 ,  *超伝導 ,  薄膜成長 ,  臨界電流密度 ,  臨界電流 ,  依存性
準シソーラス用語： 厚み依存性

分類 (1件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

タイトルに関連する用語 (7件)： IRレーザー ,  アシスト ,  CVD法 ,  薄膜 ,  高速成膜 ,  超電導特性 ,  評価