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J-GLOBAL ID：201202230200095149   整理番号：12A0779303

シリル化によって非晶質シリカの構造と疎水性を仕立てる

Tailoring the structure and hydrophobic properties of amorphous silica by silylation

著者 (2件)： FIDALGO Alexandra M. (CQFM - Centro de Quimica-Fisica Molecular and IN - Inst. of Nanoscience and Nanotechnology, Instituto Superior ...) ,  ILHARCO Laura M. (CQFM - Centro de Quimica-Fisica Molecular and IN - Inst. of Nanoscience and Nanotechnology, Instituto Superior ...)
資料名： Microporous and Mesoporous Materials  (Microporous and Mesoporous Materials)
巻： 158  ページ： 39-46  発行年： 2012年08月01日 
JST資料番号： E0642C  ISSN： 1387-1811  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゾルーゲルメソ多孔性シリカの構造と疎水性をトリメチルクロロシランを用いたシリル化によって修飾した。同プロセスの効率は一つの重要なゾルーゲルパラメータ,すなわち,水/前駆体モル比を微細に変調することで高めることが出来,このようにして,ほぼ全表面の誘導体化の実施に必要なシリル化剤の量を減少できた。シリル化によって印加された修飾が多方面にわたっており,かさ高い疎水性シリル基の導入は単に細孔壁表面の化学的性質を変えるだけでなく,またシリカ骨格の深い構造の再配置をも誘発していることが示された。何故ならば,細孔の形態と配向性が変化し,分子構造がそのような再配向によって誘発された歪みに適合しなければならないからである。加水分解とシリル化率を組み合わせた選択によって修飾シリカの疎水性と細孔の形態を同時に仕立てることが可能である。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *多孔性 ,  ゾル-ゲル法 ,  *骨格 ,  *疎水性 ,  化学修飾 ,  *シリル化 ,  分子構造 ,  表面構造 ,  細孔構造 ,  DRIFT法 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  化学的性質 ,  再配向 ,  加水分解 ,  有機ケイ素化合物 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  ゾル-ゲル合成 ,  メソ多孔性 ,  骨格構造 ,  再配置 ,  窒素吸着 ,  *非晶質シリカ

分類 (3件)： 物理化学一般その他  (CB01030T) ,  非金属化合物  (CD01070R) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (1件)： トリメチルクロロシラン

タイトルに関連する用語 (3件)： シリル化 ,  非晶質シリカ ,  疎水性