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J-GLOBAL ID:201202230366512066   整理番号:12A0508521

化学的に沈着させたBi2S3薄膜とBi2S3/P3OT太陽電池の光起電力性能

Optoelectronic properties of chemically deposited Bi2S3 thin films and the photovoltaic performance of Bi2S3/P3OT solar cells
著者 (4件):
資料名:
巻: 86  号:ページ: 1017-1022  発行年: 2012年04月 
JST資料番号: E0099A  ISSN: 0038-092X  CODEN: SRENA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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薄膜硫化ビスマス(Bi2S3),導電性すずドープ酸化インジウム(ITO)ガラス基板上に化学析出によって調製した,は厚さによって光学的バンドギャップの変化を示した:50nm薄膜(40°C沈着30分)に於ける1.8eVから2時間200nm薄膜における1.5eV。Bi2S3化合物の電気陰性度は5.3eV,元素BiとSのイオン化エネルギーと電子親和力から推定した,そして化学的に沈着したBi2S3薄膜の電子親和力は4.5eVと推定された。ITO/Bi2S3/P3OT/Au構造のエネルギーレベル解析でBi2S3が電子受容体として確定された。ITO/Bi2S3/P3OT/Au太陽電池構造を作るために,ポリ3-オクチルチオフェン(P3OT),実験室で調製した,をトルエンに溶解しBi2S3薄膜上にドロップキャストし金薄膜を熱的に蒸着させた。ITO-サイドからの100mW/cm2タングステン-ハロゲン放射の下で,50nmの厚みを持つこのBi2S3薄膜を使った電池は,最大の開回路電圧(Voc)440mVと短絡回路電流密度(Jsc0.022mA/cm2を持った。ITOとB2S3間へのCdS薄膜(90nm)添加がVocを480mV,Jscを0.035mA/cm2にする様であった。この接合の光起電力性能におけるBi2S3薄膜の表面形態とオプトエレクトロニクスに於ける役割を論じた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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太陽電池  ,  電池一般 
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