抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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電子機器に利用されるプリント基板においては銅配線に対する絶縁膜の被覆が行なわれるが,その密着性を高めるために銅表面の粗面化が施される。この粗面化は従来数μm程度の粗さであったが,近年の配線の微細化によって面粗さの影響を強く受けるようになった。本研究においては,この課題に対して従来の1/10程度の粗さに制御した粗面化を提案した。電解銅メッキサンプルを粗化エッチング液に浸漬し粗面化処理を行なった後,ビルドアップフィルム,ソルダーレジストフィルムおよびドライフィルムレジストとの密着性評価を実施した。この実験から,低粗度であっても得た粗化形状が絶縁材料に適していれば有効な密着性を得ることができることを明らかにした。