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J-GLOBAL ID:201202231130544044   整理番号:12A1516020

有機金属化学蒸着によって合成したトポロジカル絶縁体のBi2Te3薄膜

Topological insulator Bi2Te3 films synthesized by metal organic chemical vapor deposition
著者 (8件):
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巻: 101  号: 16  ページ: 162104-162104-4  発行年: 2012年10月15日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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最近,Bi2Te3およびBi2Se3のようなトポロジカル絶縁体(TI)材料に強い関心が寄せられている。TIを基本とする素子の開発には,大型で,高品質のTI薄膜の合成が重要である。本研究では,有機金属化学蒸着(MOCVD)によって,GaAs(001)基板上に堆積したBi2Te3薄膜の構造と電子特性を,x線回折法(XRD),Raman分光法,角度分解光電子分光法(ARPES)および電子輸送測定によって評価した。ARPESによって測定された電子バンド構造において,単一のDirac円錐を持つ固有のトポロジカル表面状態が明らかにされ,MOCVD法で堆積したBi2Te3薄膜の持つTI特性が確認された。抵抗率およびHall効果測定によって,比較的大きいバルクのキャリア移動度が確認され,300Kにおいて350cm2/Vs,そして15Kでは7400cm2/Vs程度であることが分かった。また,薄膜のSeebeck係数も測定した。簡単で,拡張可能な方法によって高品質のトポロジカル絶縁体薄膜の成長が可能になったことは,熱電特性を有するTI材料の基礎的な研究と実用という観点から非常に興味深い。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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半導体結晶の電気伝導  ,  半導体薄膜 
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