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J-GLOBAL ID：201202231301756576   整理番号：12A1308651

ミストCVD装置の製作とZnO薄膜への応用

Fabrication of mist-CVD equipment and its application to ZnO films

著者 (2件)： 宮越小太郎 (石川工高専) ,  瀬戸悟 (石川工高専)
資料名： 石川工業高等専門学校紀要  (Memoirs of National Institute of Technology, Ishikawa College)
号： 44  ページ： 29-34  発行年： 2012年03月26日 
JST資料番号： S0861A  ISSN： 0286-6110  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 最近,様々な膜形成法が開発され,電子産業に用いられている。たとえば,薄膜技術はLCDテレビジョンにおけるITO膜をコーティングした導電性ガラス基板において用いられてきた。本研究の目的は,真空装置を必要としない安価で自作可能なミストCVD装置を製作し,自作したミストCVD装置をZnO薄膜の製作に応用することである。ミストCVD法は,MOCVD法あるいはスパッタリングなどの他の薄膜形成法に比べて費用効果が良い方法である。この論文において,著者らは新しいミストCVDシステムを記述し,このミストCVDシステムによって堆積したZnO膜の特性評価について報告した。当初は安定的にZnO薄膜の作製に至らなかったが,装置に改良を加えた結果,安定的にZnO薄膜の作製に応用できた。特に,著者らは,基板温度がZnO膜の表面形態,結晶品質および光ルミネセンス特性に及ぼす効果に重点を置いた。

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *酸化亜鉛 ,  X線回折 ,  光ルミネセンス ,  構成 ,  電子技術 ,  透明導電膜 ,  酸化物 ,  薄膜 ,  テレビジョン受像機 ,  酸化インジウムスズ ,  ガラス ,  被覆 ,  *蒸着装置 ,  基板温度 ,  温度依存性 ,  改変 ,  振動子 ,  気体 ,  電気炉 ,  基板 ,  条件 ,  形態 ,  表面構造 ,  品質 ,  キャラクタリゼーション ,  発光スペクトル
準シソーラス用語： ITO ,  ITOガラス ,  LCD-TV ,  コーティング ,  サファイア基板 ,  ミストCVD ,  *ミストCVD法 ,  ルミネセンススペクトル ,  結晶品質 ,  酸化亜鉛薄膜 ,  酸化物薄膜 ,  実験条件 ,  成膜 ,  窒素ガス ,  超音波振動子 ,  特性評価 ,  表面形態 ,  霧化

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

物質索引 (1件)： 酢酸亜鉛

タイトルに関連する用語 (4件)： ミストCVD ,  製作 ,  ZnO薄膜 ,  応用