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J-GLOBAL ID：201202231554787516   整理番号：12A1723876

UV照射による双性イオン型高分子ブラシ構築基板表面のパターニング

著者 (6件)： 鎌田知宏 (富山大 大学院) ,  中路正 (富山大 先端ライフサイエンス研究拠点) ,  北野博巳 (富山大 大学院) ,  臼井友輝 (日産化学工業 電子材料研) ,  広井佳臣 (日産化学工業 電子材料研) ,  岸岡高広 (日産化学工業 電子材料研)
資料名： ポリマー材料フォーラム講演予稿集
巻： 21st  ページ： 100  発行年： 2012年10月17日 
JST資料番号： L2062A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 紫外線照射 ,  双性イオン ,  *高分子ブラシ ,  *パターン形成 ,  第四アンモニウム ,  生体適合性高分子 ,  *ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  細胞接着 ,  接触角 ,  アミノ酸 ,  脂肪族アミン ,  脂肪族カルボン酸 ,  カルボン酸塩 ,  カルボキシ基
準シソーラス用語： カルボキシル基 ,  可逆的付加開裂連鎖移動重合 ,  *双性イオン型高分子 ,  蛋白質吸着 ,  表面物性

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  高分子材料一般  (YH07010B)

物質索引 (1件)： ベタイン

タイトルに関連する用語 (6件)： UV照射 ,  双性イオン ,  高分子ブラシ ,  構築 ,  基板表面 ,  パターニング