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J-GLOBAL ID：201202231790727141   整理番号：12A0146643

マグネトロンスパッタリングにより蒸着させたTi-TiO₂薄膜のRBS(Rutherford後方散乱分光法),XRR(X線反射率測定),光反射率測定

RBS, XRR and optical reflectivity measurements of Ti-TiO₂ thin films deposited by magnetron sputtering

著者 (10件)： DROGOWSKA K. (Fac. of Physics and Applied Computer Sci., AGH Univ. of Sci. and Technol., 30-059 Krakow, POL) ,  DROGOWSKA K. (Inst. of Materials Sci., Technische Universitaet Darmstadt, Petersenstrasse 23, 64287 Darmstadt, DEU) ,  TARNAWSKI Z. (Fac. of Physics and Applied Computer Sci., AGH Univ. of Sci. and Technol., 30-059 Krakow, POL) ,  BRUDNIK A. (Fac. of Electrical Engineering, Automatics, Computer Sci. and Electronics, AGH Univ. of Sci. and Technol., 30-059 ...) ,  KUSIOR E. (Fac. of Electrical Engineering, Automatics, Computer Sci. and Electronics, AGH Univ. of Sci. and Technol., 30-059 ...) ,  SOKOLOWSKI M. (Fac. of Electrical Engineering, Automatics, Computer Sci. and Electronics, AGH Univ. of Sci. and Technol., 30-059 ...) ,  ZAKRZEWSKA K. (Fac. of Electrical Engineering, Automatics, Computer Sci. and Electronics, AGH Univ. of Sci. and Technol., 30-059 ...) ,  RESZKA A. (Inst. of Physics, Polish Acad. of Sciences, al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warsaw, POL) ,  KIM-NGAN N.- T.H. (Inst. of Physics, Pedagogical Univ., 30-084 Krakow, POL) ,  BALOGH A.g. (Inst. of Materials Sci., Technische Universitaet Darmstadt, Petersenstrasse 23, 64287 Darmstadt, DEU)
資料名： Materials Research Bulletin  (Materials Research Bulletin)
巻： 47  号： 2  ページ： 296-301  発行年： 2012年02月 
JST資料番号： B0954A  ISSN： 0025-5408  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ar不活性雰囲気やAr+O₂反応性雰囲気下,金属Tiターゲットからのd.c.パルスマグネトロンスパッタリングにより,Ti-TiO₂系の単層/二層/三層薄膜を蒸着させた。名目上の各層厚は50nmだった。RBS(Rutherford後方散乱分光法)により,化学組成と深さプロファイルを決定した。すれすれ入射X線回折(XRD)を利用し,結晶構造を分析した。XRR(X線反射率測定)を,膜厚や密度評価用の相補的方法として用いた。Si(111)基板に蒸着させたTi-TiO₂薄膜の光反射スペクトルモデルでは,層厚の独立推定値を提供した。RBS,XRR,反射スペクトルの組合せ分析では,50nm未満の実際の各層厚を,対応バルク密度値より少し小さなTiO₂膜密度と共に示した。走査電子顕微鏡(SEM)断面画像では,TiO₂層の円柱状成長を明らかにした。SEM研究からの直接推定厚さは,RBS,XRR,反射スペクトルの結果と良く一致すると分った。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *計測 ,  *X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  *反射率 ,  *Rutherford後方散乱 ,  反射スペクトル ,  雰囲気 ,  アルゴン ,  酸素 ,  ターゲット ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *薄膜 ,  *蒸着 ,  層厚 ,  化学組成 ,  深さプロフィル ,  結晶構造 ,  密度 ,  基板
準シソーラス用語： *DCマグネトロンスパッタリング ,  *X線反射率 ,  シリカ基板 ,  *すれすれ入射X線回折 ,  *光反射率 ,  *反射率測定

分類 (4件)： 薄膜一般  (BK14010X) ,  気相めっき  (WC08022K) ,  無機物質の物理分析一般  (CC03021Q) ,  分光分析  (CC03012W)

タイトルに関連する用語 (8件)： マグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  Ti ,  TiO2 ,  薄膜 ,  Rutherford後方散乱分光法 ,  X線反射率測定 ,  光反射率