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J-GLOBAL ID：201202232124390546   整理番号：12A0779312

断熱性フィルム用の規則性メソ多孔性SiO₂フィルムの熱安定性に関する研究

Study on the thermal stability of ordered mesoporous SiO₂ film for thermal insulating film

著者 (6件)： HA Tae-jung (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Yonsei Univ., Seoul 120-749, KOR) ,  PARK Hyung-ho (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Yonsei Univ., Seoul 120-749, KOR) ,  JANG Ho Won (Electronic Materials Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., Seoul 130-650, KOR) ,  YOON Seok-jin (Electronic Materials Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., Seoul 130-650, KOR) ,  SHIN Sangwoo (School of Mechanical Engineering, Yonsei Univ., Seoul 120-749, KOR) ,  CHO Hyung Hee (School of Mechanical Engineering, Yonsei Univ., Seoul 120-749, KOR)
資料名： Microporous and Mesoporous Materials  (Microporous and Mesoporous Materials)
巻： 158  ページ： 123-128  発行年： 2012年08月01日 
JST資料番号： E0642C  ISSN： 1387-1811  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 規則性メソ多孔性SiO₂フィルムは,高密度SiO₂フィルムに比べてナノメートル径孔の存在に起因して非常に低い熱伝導性を有している。この優れた物質を断熱の分野に応用するためには,高温における細孔構造の熱安定性と熱伝導性を確認することが重要である。この研究では,規則性メソ多孔性SiO₂フィルムを種々の量の界面活性剤を用いて合成し,種々の温度での熱処理を実施してその熱安定性を確認した。斜め入射小角X線散乱によって測定されたように,メソ多孔性SiO₂フィルムの細孔構造の分解が熱処理温度の上昇に伴って観察された。しかしながら,高規則性細孔配置を有するメソ多孔性SiO₂フィルムは高い熱安定性を示し,高温での追加的な熱処理の間,その細孔構造を保持した。高温での熱安定性を有する規則性メソ多孔性SiO₂フィルムの機械的特性と熱伝導度が解析された。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *薄膜 ,  多孔質体 ,  *規則度 ,  水熱合成 ,  鋳型反応 ,  スピンコーティング ,  焼成 ,  細孔構造 ,  多孔性 ,  硬度 ,  弾性係数 ,  *熱安定性 ,  X線回折 ,  小角X線散乱 ,  熱処理 ,  温度依存性 ,  *熱伝導率 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *メソポーラスシリカ ,  メソ構造 ,  加熱処理 ,  規則性 ,  斜入射小角X線散乱 ,  弾性率 ,  薄膜フィルム

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  比熱・熱伝導一般  (BL05021E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 断熱性 ,  フィルム ,  規則性 ,  メソ多孔性 ,  SiO2 ,  熱安定性 ,  研究