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J-GLOBAL ID:201202232855017666   整理番号:12A0584965

N-末端ジスルフィド架橋エンジニアリングによるThermomyces lanuginosus GH11キシラナーゼの熱性能改善

Improved thermal performance of Thermomyces lanuginosus GH11 xylanase by engineering of an N-terminal disulfide bridge
著者 (9件):
資料名:
巻: 112  ページ: 275-279  発行年: 2012年05月 
JST資料番号: A0390B  ISSN: 0960-8524  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高温菌Thermomyces lanuginosus GH11キシラナーゼ,TLXの安定性を増強するために,Q1C-Q24Cジスルフィド架橋を酵素N-末端域に取り入れた。見掛け至適温度は,pH6.5で,約10°Cから75°Cへ上昇した。熱不活性化に対する耐性も約10°C上昇した。測定した溶解温度は,66から74°Cに上昇した。したがって,N-末端ジスルフィド架橋は,反応性および熱安定性とも等しく増加させた。pH8,70°Cで,ジスルフィド架橋は,基質存在下での酵素半減期を20倍高めた。酸性-中性pHにおける状況と対照的に,基質はアルカリ性pHにおけるキシラナーゼ耐熱性を低下させた。pH9でのジスルフィド架橋変異体の性能の上限は75°Cであった。本研究は,N-末端ジスルフィド架橋が,熱安定ファミリーGH11キシラナーゼでも安定化させることを示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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微生物酵素の生産 

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