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J-GLOBAL ID：201202232862939030   整理番号：12A1220817

ナノフォトニック・ストリップ導波路のALD支援型多次元分散工学

ALD-Assisted Multiorder Dispersion Engineering of Nanophotonic Strip Waveguides

著者 (10件)： ERDMANIS Mikhail (Aalto Univ., Aalto, FIN) ,  KARVONEN Lasse (Aalto Univ., Aalto, FIN) ,  SALEEM Muhammad Rizwan (Univ. Eastern Finland, Joensuu, FIN) ,  SALEEM Muhammad Rizwan (National Univ. Sci. and Technol., Islamabad, PAK) ,  RUOHO Mikko (Aalto Univ., Aalto, FIN) ,  PALE Ville (Aalto Univ., Aalto, FIN) ,  TERVONEN Ari (Aalto Univ., Aalto, FIN) ,  HONKANEN Seppo (Aalto Univ., Aalto, FIN) ,  HONKANEN Seppo (Univ. Eastern Finland, Joensuu, FIN) ,  TITTONEN Ilkka (Aalto Univ., Aalto, FIN)
資料名： Journal of Lightwave Technology  (Journal of Lightwave Technology)
巻： 30  号： 13-16  ページ： 2488-2493  発行年： 2012年07月01日 
JST資料番号： H0922A  ISSN： 0733-8724  CODEN： JLTEDG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高屈折率の共形TiO2薄膜でコーティングした導波路を経由する原子層蒸着(ALD)を用いる多次元分散工学を提案した。厚み220nmSi層の標準SOIナノフォトニクスウェハと互換性があり,ポンピングレーザ波長と出力レベルを自由に選択できる確実で正確な分散管理技術の提供を目指し,原子層蒸着(ALD)技術に基づき,SOI導波路内通信帯域内のゼロ分散波長位置制御に加え,その様な被覆層は絶対群速度分散値を固定波長で調整でき,その結果の平坦な分散曲線は製作公差を緩和することを示した。TiO2被覆層が多次元分散項に及ぼす影響も示し,提案ALD被覆層は伝搬損失を低減し,製作不完全性を一部補正することを示した。

シソーラス用語： 工学 ,  SOI構造 ,  化学蒸着 ,  分散【dispersion】 ,  分散管理 ,  薄膜 ,  *光導波路 ,  損失
準シソーラス用語： ナノフォトニクス ,  *ストリップ導波路 ,  原子層蒸着 ,  色分散 ,  群速度分散 ,  伝搬損失

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (6件)： フォト ,  ストリップ導波路 ,  ALD ,  支援 ,  多次元 ,  工学