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J-GLOBAL ID：201202233449833467   整理番号：12A1761151

ナノテクノロジー・材料科学技術基盤「多次元的ナノスケールイメージング技術開発」,「高エネルギーフォトンサイエンスを飛躍させる次世代光源開発」

著者 (1件)： 玉作賢治 (理研)
資料名： ナノテクノロジー・材料分野俯瞰ワークショップ報告書(研究開発領域別分科会) 平成24年
ページ： 212-215  発行年： 2012年 
JST資料番号： N20121493  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光源 ,  *画像技術 ,  *ナノテクノロジー ,  *シンクロトロン放射 ,  X線レーザ ,  *自由電子レーザ ,  X線自由電子レーザ
準シソーラス用語： ナノイメージング

分類 (2件)： 電磁場中の粒子の運動及び放射  (BD01030Y) ,  その他のレーザ  (BD04090H)

タイトルに関連する用語 (8件)： ナノテクノロジー ,  材料科学 ,  基盤 ,  多次元 ,  ナノスケール ,  イメージング技術 ,  開発 ,  次世代