TiO<sub>2</sub>へのNiナノ粒子の光沈着及びそれらの2,4-ジクロロフェノキシ酢酸の接触オゾン処理への応用

RODRIGUEZ Julia L.; RODRIGUEZ Julia L.; VALENZUELA Miguel A.; POLA Francisco; TIZNADO Hugo; POZNYAK Tatiana

文献

J-GLOBAL ID：201202233571416044 整理番号：12A0061179

TiO₂へのNiナノ粒子の光沈着及びそれらの2,4-ジクロロフェノキシ酢酸の接触オゾン処理への応用

Photodeposition of Ni nanoparticles on TiO₂ and their application in the catalytic ozonation of 2,4-dichlorophenoxyacetic acid

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資料名：
巻： 353-354 ページ： 29-36 発行年： 2012年02月
JST資料番号： B0605C ISSN： 1381-1169 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

種々の光化学的アプローチを調べ,2,4-ジクロロフェノキシ酢酸(2,4-D)の接触オゾン処理に用いる担持ニッケルナノ粒子を調製した。増感剤(TiO₂,アセトンまたはベンゾフェノン)の存在下または不存在下で,直接光化学法(λ=365nm,TiO₂無し)及び光触媒沈着法を採用した。X線回折(XRD),X線光電子分光法(XPS)及び透過電子顕微鏡(TEM)により,この触媒のキャラクタリゼーションを行った。担体に無作為に分散した粒径範囲が7~15nmのNiナノ粒子を非常に短い照射時間で得るために最も適した方法は,増感剤を使用しない光触媒沈着法であった。TiO₂の量及び光強度を変化させて,この方法の最適化を行った。2,4-D分解の結果では,Ni/TiO₂触媒による接触オゾン処理が,TiO₂または単独オゾン処理より僅かに高い変換率を示した。これらの結果は,TiO₂の表面における二つの相(NiO/Ni)の存在により説明できた。NiO/Niは2,4-D分解に有用なOHラジカルを生成し,オゾン分解を引き立てた。オゾンの直接攻撃の過程で生成する全ての中間生成物及び生成したOHラジカルを含む反応経路を提案した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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その他の触媒 , 光化学一般 , 酸化,還元

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TiO2へのNiナノ粒子の光沈着及びそれらの2,4-ジクロロフェノキシ酢酸の接触オゾン処理への応用

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