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J-GLOBAL ID:201202234599366979   整理番号:12A1000333

シリコン上のSnO2/Ag/SnO2三層における銀層不安定性

Silver layer instability in a SnO2/Ag/SnO2 trilayer on silicon
著者 (3件):
資料名:
巻: 520  号: 19  ページ: 6189-6195  発行年: 2012年07月31日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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酸化Si(100)基板上に室温で堆積させたSnO2/Ag/SnO2の三層は,100および200°Cでのアニーリング後に不安定になり,次の5現象,つまり,内部Agヒロックの形成,内部Agヒロック上でのトップSnO2層の亀裂形成,粒子ピンチオフをもたらすSnO2によるAg/Ag粒界の貫通,SnO2の自由表面上での亀裂のあるトップ層を通るAgホイスカおよび島状構造の形成,ならびにAg層内での空孔欠陥形成,を示した。熱膨張不整合および表面エネルギーの減少に起因する不安定性の観測結果について,可能な駆動力および発展経路を論じた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  金属薄膜 
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