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J-GLOBAL ID：201202234842887753   整理番号：12A1110812

ディップペンナノリソグラフィーによりパターン化されたサブミクロンスケールの酸化剤からのEDOTの気相重合

Vapor Phase Polymerization of EDOT from Submicrometer Scale Oxidant Patterned by Dip-Pen Nanolithography

著者 (5件)： O’CONNELL Cathal D. (Univ. Wollongong, NSW, AUS) ,  HIGGINS Michael J. (Univ. Wollongong, NSW, AUS) ,  NAKASHIMA Hiroshi (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  MOULTON Simon E. (Univ. Wollongong, NSW, AUS) ,  WALLACE Gordon G. (Univ. Wollongong, NSW, AUS)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 28  号： 26  ページ： 9953-9960  発行年： 2012年07月03日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： その場気相重合(VPP)により導電性高分子,ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)のサブミクロンパターニングを行う方法について示した。ディップペンナノリソグラフィー(DPN)を用い,アトリットル(10^-18L体積の酸化剤「インク」を制御させて付着させた。EDOTモノマーをVPPチャンバ内で酸化剤にさらすと,各付着パターンが数μmから250nm幅の導電性PEDOTの合成を局所的に行う。PEDOTパターンのキャラクタリゼーションはAFM,導電性AFM,2プローブ電気測定およびマイクロRaman分光により行い,ピコグラムスケールの導電性高分子のその場気相合成が行われたことを確認した。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  サブミクロン加工 ,  *ポリエチレンジオキシチオフェン ,  *気相重合 ,  導電性高分子 ,  *酸化剤 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： *ディップペンナノリソグラフィー ,  *ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  単独重合  (CG04020S)

タイトルに関連する用語 (4件)： ディップペンナノリソグラフィー ,  酸化剤 ,  EDOT ,  気相重合