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J-GLOBAL ID：201202235945831841   整理番号：12A1217025

ブラックボックスAPIによるLFD付き14nmノードの設計アセンブリとキャラクタリゼーションの先端技術

Advanced techniques for design assembly and characterization for the 14nm node with LFD using a Black Box API

著者 (9件)： OPITZ Juliann (Mentor Graphic Corp., OR, USA) ,  TORRES Andres (Mentor Graphic Corp., OR, USA) ,  GRAUR Ioana (IBM Corp., NY) ,  MANHAWY Wael (Mentor Graphic Corp., OR, USA) ,  KANODIA Suniti (Mentor Graphic Corp., OR, USA) ,  SHAFEE Marwah (Mentor Graphics Corp., Cairo, EGY) ,  MOHAMED Sarah (Mentor Graphics Corp., Cairo, EGY) ,  HASSAND Ahmed (Mentor Graphics Corp., Cairo, EGY) ,  BICKFORD Jeanne (IBM Corp., VT)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8327  ページ： 832711.1-832711.10  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 基本技術(Pセル)構図の最適化,IPセル設計の基本技術構図の選択,およびシミュレーションツールへの応用プログラムインターフェース(API)を含む設計と共最適化技術について述べた。設計の安定性と,高度光学プロセス技術のロバストチップ設計のアセンブリの容易性とを改善するための技術を統合する最適化設計プロセスを確認した。プロセス開発中の試みられた各プロセス変化を捕える機能を記述し,確認するのにブラックボックスAPIを使用した。

シソーラス用語： ブラックボックス ,  システムインタフェイス ,  *リソグラフィー ,  *半導体プロセス ,  *微細加工 ,  キャラクタリゼーション ,  組立 ,  最適設計
準シソーラス用語： 応用プログラムインタフェイス ,  アセンブリ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： ブラックボックス ,  API ,  ノード ,  設計 ,  アセンブリ ,  キャラクタリゼーション ,  先端技術