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J-GLOBAL ID：201202236117218245   整理番号：12A0833496

面外テクスチャード加工SmCo₅薄膜の磁界および時間依存,局所およびグローバル磁化挙動

Field- and time-dependent, local and global magnetization behaviour of out-of-plane textured SmCo5 thin films

著者 (5件)： SEIFERT M (Inst. for Metallic Materials, Dresden, DEU) ,  KNITTEL I (Univ. des Saarlandes, Saarbruecken, DEU) ,  HARTMANN U (Univ. des Saarlandes, Saarbruecken, DEU) ,  SCHULTZ L (Inst. for Metallic Materials, Dresden, DEU) ,  NEU V (Inst. for Metallic Materials, Dresden, DEU)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 45  号： 17  ページ： 175001,1-7  発行年： 2012年05月02日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 磁性体の磁区状態の画像化は磁化プロセスに対して最も詳細な様子を提供する。本論文では先ず,試料としてグローバルな磁化測定にしたがってピン止めに支配された強い飽和保持力メカニズムを持つ非常に薄い面外テクスチャード加工したSmCo₅膜を選択した。そして与えた磁界の関数としての面外表面加工したSmCo₅薄膜の磁化パターンの変化を磁気力顕微鏡法(MFM)によって研究し,磁化と消磁プロセスを議論する。次に一定の磁場における試料の磁気緩和のような時間効果に焦点を当てる。直接観察した磁区の振る舞いは磁化および消磁プロセスについてのピン止めおよび核形成の影響を明確に述べる。

シソーラス用語： 磁区 ,  *磁化特性測定 ,  テキスチャード加工 ,  サマリウム含有合金 ,  *コバルト合金 ,  磁性体 ,  磁気緩和 ,  磁束ピン止め ,  核形成 ,  *磁性薄膜 ,  金属薄膜
準シソーラス用語： *画像化 ,  強磁性薄膜 ,  合金薄膜

分類 (2件)： 金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (7件)： テクスチャード加工 ,  薄膜 ,  磁界 ,  時間依存 ,  グローバル ,  磁化 ,  挙動