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J-GLOBAL ID：201202236406139051   整理番号：12A0779202

極端な応力勾配下での電気めっきNi被膜における非常な高サイクル疲労き裂発生

Very high cycle fatigue crack initiation in electroplated Ni films under extreme stress gradients

著者 (2件)： BAUMERT E.k. (G.W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Inst. of Technol., Atlanta, GA 30332-0405, USA) ,  PIERRON O.n. (G.W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Inst. of Technol., Atlanta, GA 30332-0405, USA)
資料名： Scripta Materialia  (Scripta Materialia)
巻： 67  号： 1  ページ： 45-48  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 1359-6462  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 柱状晶ミクロ組織(粒径2μ以下)を持つ20μm厚の電気めっきNi皮膜の超高サイクル疲労挙動を観察するためにキロヘルツマイクロ共振器に基づく特徴的技術を報告する。皮膜は表面の極端な応力勾配のため卓越した疲労強度を示している。走査電子顕微鏡観察と試料の共鳴振動数の追跡に基づき,疲労突出しとマイクロき裂の生成におよぼす応力振幅と環境の影響について検討する。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 電気めっき ,  *めっき皮膜 ,  *高サイクル疲れ ,  *疲れ亀裂 ,  *亀裂発生 ,  柱状晶 ,  金属組織 ,  微小亀裂 ,  突起部 ,  振幅 ,  疲れ寿命 ,  共振器 ,  酸化膜 ,  *ニッケルめっき ,  勾配
準シソーラス用語： MEMS共振器 ,  *応力勾配 ,  応力振幅 ,  突出し

分類 (3件)： 電気めっき  (WC08023B) ,  機械的性質  (WB02030U) ,  金属材料  (HC05020S)

タイトルに関連する用語 (6件)： 応力勾配 ,  電気めっき ,  Ni ,  被膜 ,  高サイクル疲労 ,  き裂発生