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J-GLOBAL ID：201202236436927453   整理番号：12A1602283

パルスレーザ堆積によって成長したナノ構造化およびアモルファス状タングステン膜

Nanostructured and amorphous-like tungsten films grown by pulsed laser deposition

著者 (5件)： DELLASEGA D. (Dipartimento di Energia and NEMAS-Centre for NanoEngineered Materials and Surfaces, Politecnico di Milano, via ...) ,  MERLO G. (Dipartimento di Energia and NEMAS-Centre for NanoEngineered Materials and Surfaces, Politecnico di Milano, via ...) ,  CONTI C. (ICVBC-CNR, Via Cozzi 54, 20125 Milano, ITA) ,  BOTTANI C. E. (Dipartimento di Energia and NEMAS-Centre for NanoEngineered Materials and Surfaces, Politecnico di Milano, via ...) ,  PASSONI M. (Dipartimento di Energia and NEMAS-Centre for NanoEngineered Materials and Surfaces, Politecnico di Milano, via ...)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 112  号： 8  ページ： 084328-084328-7  発行年： 2012年10月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ堆積によって成長したナノ構造化,マイクロメータ厚タングステン膜の実験的な研究を発表する。本膜は結晶粒径が14nmから2nm以下まで変わる緻密で空孔のない膜である。適切に調整した堆積速度とアブレーションされる材料によって,膜の形態と構造の両方の微細なまた分離した制御を如何に達成できるかを示す。主なプロセスパラメータ,Heバックグラウンド圧力,レーザ流束量,およびエネルギーの役割を解明する。他のPVD技術で形成したW膜と比較して,この方法で形成したW膜はβ相成長を回避でき,酸素のような不純物と汚染の存在が膜構造と関係がないことが分かる。これらの特徴は腐食抵抗や強化した拡散バリアのような改良した特性を有するコーティング膜の開発のためにこの膜を魅力あるものとしている。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *タングステン ,  *金属薄膜 ,  *非晶質 ,  *ナノ構造 ,  *レーザ蒸着 ,  結晶粒径 ,  堆積速度 ,  アブレーション ,  形態 ,  膜構造 ,  β相 ,  不純物 ,  汚染 ,  耐食性 ,  拡散障壁 ,  皮膜 ,  バックグラウンド ,  フラックス【流束】 ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： コーティング膜 ,  *パルスレーザ堆積

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザ堆積 ,  成長 ,  ナノ構造 ,  アモルファス状 ,  タングステン