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J-GLOBAL ID：201202236537835746   整理番号：12A0840605

様々な酸素分圧下でのイットリア安定化ジルコニア薄膜の表面改質

Surface modification of yttria-stabilized-zirconia thin films under various oxygen partial pressures

著者 (15件)： BAE J.s. (Busan Center, Korea Basic Sci. Inst., Busan 609-735, KOR) ,  PARK S.-s. (Dep. of Physics, Pusan National Univ., Busan 609-735, KOR) ,  MUN B.s. (Dep. of Applied Physics, Hanyang Univ., ERICA, Ansan 426-791, KOR) ,  PARK S.h. (Dep. of Physics, Pusan National Univ., Busan 609-735, KOR) ,  HWANG E.s. (Dep. of Physics, Pusan National Univ., Busan 609-735, KOR) ,  KIM J. (National Core Res. Center for Extreme Light Applications, Gwangju Inst. Sci. & Technol., Gwangju 500-712, KOR) ,  HUH J. (Chonnam National Univ., Yeosu 550-749, KOR) ,  PARK H.j. (Res. Center for Dielectric & Advanced Matter, Pusan National Univ., Busan 609-735, KOR) ,  KIM J.s. (Res. Center for Dielectric & Advanced Matter, Pusan National Univ., Busan 609-735, KOR) ,  YUN H.j. (Jeunju Center, Korea Basic Sci. Inst., Jeonju 561-756, KOR) ,  KIM H.g. (Busan Center, Korea Basic Sci. Inst., Busan 609-735, KOR) ,  JEONG S.y. (Dep. of Cogno-mechatronics Engineering, Pusan National Univ., Miryang 627-706, KOR) ,  HWANG J. (Dep. of Physics, Pusan National Univ., Busan 609-735, KOR) ,  HWANG J. (Dep. of Physics, Sungkyunkwan Univ., Suwon, Gyeonggi-do 440-746, KOR) ,  PARK S. (Dep. of Physics, Pusan National Univ., Busan 609-735, KOR)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 520  号： 17  ページ： 5826-5831  発行年： 2012年06月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,Al₂O₃(0001)基板上に成長させたイットリア安定化ジルコニア薄膜の構造的,分光学的解析について論じた。成長時の酸素分圧の変化が,薄膜の表面化学組成や表面結晶方位と密接に関連していることを見いだした。酸素分圧の存在は薄膜上に多結晶構造を生み出すが,結晶構造の優先方位は酸素分圧の無い下で形成された。X線回折(XRD)ピークの幅が広く,薄膜構造の特定には困難が生じた。しかしながら,XRDロッキイング走査から,2つの横方向分域サイズが存在することがわかった。X線光電子分光測定による薄膜の化学分析から,酸素分圧が増加するのにしたがって,酸化イットリウムが表面に豊富になることがわかった。価電子バンドスペクトルの詳細な解析から,薄膜は表面構造相転移を引き起こすこともわかった。すなわち,単一正方晶構造から混合(立方晶と単斜)構造へと転移する。さらに,酸素分圧が増加するのにしたがって,光学データには,薄膜の構造相転移の存在を反映したバンドギャップの小さな増加が見られた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 分圧 ,  *セラミック ,  *酸化イットリウム ,  *酸化ジルコニウム ,  *表面改質 ,  薄膜 ,  ロッキングカーブ ,  結晶方位 ,  X線回折 ,  X線光電子分光法 ,  構造相転移
準シソーラス用語： 酸素分圧 ,  *イットリア安定化ジルコニア

分類 (1件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸素分圧 ,  イットリア安定化ジルコニア ,  薄膜 ,  表面改質