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J-GLOBAL ID：201202236667698627   整理番号：12A0853539

FeBNdNb磁性金属ガラス薄膜の作製と特性評価

Fabrication and Characterization of an FeBNdNb Magnetic Metallic Glass Thin Film

著者 (6件)： PHAN Tuan Anh (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  LEE Sangmin (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MAKINO Akihiro (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OGUCHI Hiroyuki (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OKAMOTO Hiroshi (Akita Prefectural Univ., Akita, JPN) ,  KUWANO Hiroki (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 5,Issue 1  ページ： 055803.1-055803.3  発行年： 2012年05月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子サイクロトロン共鳴イオンビームスパッタリングにより(100)シリコン基板上にFe_67.46B_22.5Nd_6.3Nd_3.74磁性金属ガラス薄膜を作製した。X線回折測定および透過型電子顕微鏡法を用いてその結晶学的非晶質状態を観測することにより薄膜の金属ガラス状態を確認し,示差走査熱量測定を用いてガラス転移温度を求めた。物性測定システムを用いて薄膜の磁化も確認した。薄膜は,既存の磁性金属ガラス薄膜の間で報告されている最大幅の過冷却領域(96K)そして報告されている最少の保磁力(7.5A/m)を示した。本研究は,利用可能な材料の多様性を増やし,磁性金属ガラス薄膜の物性に関するより多くの知見をもたらし,磁気マイクロ電気機械的システム用の基盤材料として磁性金属ガラス薄膜を開発する研究を容易にすることを求められている。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 基板 ,  ケイ素 ,  金属薄膜 ,  *スパッタ蒸着 ,  サイクロトロン共鳴 ,  イオンビームスパッタリング ,  *磁性薄膜 ,  鉄合金 ,  ホウ素含有合金 ,  ネオジム含有合金 ,  X線回折 ,  *金属ガラス ,  *保磁力 ,  示差走査熱量測定 ,  システム ,  過冷却
準シソーラス用語： 電子サイクロトロン共鳴 ,  マイクロ電気機械システム

分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

引用文献 (35件)：

• 1) R. Bogue: Sens. Rev. 27 (2007) 7.
• 2) J. W. Judy: Proc. Measurement Science and Technology Conf., 2000, p. 403.
• 3) A. C. R. Grayson, R. S. Shawgo, A. M. Johnson, N. T. Flynn, Y. Li, M. J. Cima, and R. Langer: Proc. IEEE 92 (2004) 6.
• 4) S. Hata, Y. Yamada, J. Ichihara, and A. Shimokohbe: Proc. 15th IEEE Int. Conf. Micro Electro Mechanical Systems, 2002, p. 507.
• 5) X. Wang, B. Li, Z. Xiao, S. H. Lee, H. Roman, O. L. Russo, K. K. Chin, and K. R. Farmer: J. Micromech. Microeng. 15 (2005) 521.

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁性金属 ,  ガラス ,  薄膜 ,  作製 ,  特性評価