抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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シイタケの浸水発生における休養条件の違いが2番発生に与える影響を明らかにするため,直射日光下,人工ほだ場,人工ほだ場+散水,針葉樹林内で休養させた後の子実体発生量を調査した。直射日光下での休養では,発生量及び個重が有意に低下したが,その他の試験区で有意差はなかった。直射日光区の気温,ほだ木内の表層温度,内部温度が他の試験区よりも大幅に高く,シイタケ菌糸体が弱まり,死滅または生長が停止し害菌が蔓延したため,発生量が低下したものと推察された。(著者抄録)