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J-GLOBAL ID：201202237016978164   整理番号：12A1228670

チオエーテル分子の吸着挙動に及ぼす格子-気体原子の影響

Effect of lattice-gas atoms on the adsorption behaviour of thioether molecules

著者 (6件)： PAN Yi (Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU) ,  YANG Bing (Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU) ,  HULOT Catherine (Technische Univ. Berlin, Berlin, DEU) ,  BLECHERT Siegfried (Technische Univ. Berlin, Berlin, DEU) ,  NILIUS Niklas (Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU) ,  FREUND Hans-Joachim (Fritz-Haber-Inst. Max-Planck-Gesellschaft, Berlin, DEU)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 14  号： 31  ページ： 10987-10993  発行年： 2012年08月21日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： STMトポグラフィックイメージング及び分光法を用いて,二つのチオエーテル分子(1,2-ビス(フェニルチオ)ベンゼン及び(ビス(3-フェニルチオ)-フェニル)スルファン)の貴金属及び遷移金属表面への吸着を研究した。二種類の金属性基板は正反対の挙動を示す。Au(111)上では一つまたは二つの突出中心との錯体が認められ,他方NiAl(110)上では平坦で均一な吸着構造を見いだした。その差異は,Au(111)上では配位格子ガス原子による金属-有機錯体の形成の可能性があり,合金表面ではそのままの分子吸着によると解釈される。チオエーテル分子の単一金属吸着原子との大きな親和性が確定されるが,NiAl上では格子ガス進展が室温では不十分でAu上と同様の機構が有用でない。

シソーラス用語： *スルフィド ,  脂肪族化合物 ,  格子気体 ,  吸着 ,  *走査型トンネル顕微鏡 ,  金 ,  結晶面 ,  錯体生成 ,  ニッケル合金 ,  アルミニウム合金 ,  トポグラフィー【形態】 ,  *気固界面
準シソーラス用語： チオエーテル ,  格子ガス

分類 (3件)： 吸着の電子論  (CB12042Y) ,  顕微鏡法  (BK01040E) ,  脂肪族スルフィド・ジスルフィド  (CF03130C)

物質索引 (2件)： 1,2-ビス(フェニルチオ)ベンゼン ,  ビス[3-(フェニルチオ)フェニル]スルフィド

タイトルに関連する用語 (7件)： チオエーテル ,  分子 ,  吸着 ,  挙動 ,  格子 ,  気体 ,  原子