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J-GLOBAL ID：201202237170758843   整理番号：12A1216997

自己整合二重パターン形成(SADP)コンプライアント設計フロー

Self-Aligned Double Patterning (SADP) Compliant Design Flow

著者 (6件)： MA Yuansheng (GLOBALFOUNDRIES, CA, USA) ,  SWEIS Jason (Cadence Design Systems, Inc., CA, USA) ,  YOSHIDA Hidekazu (GLOBALFOUNDRIES, CA, USA) ,  WANG Yan (GLOBALFOUNDRIES, CA, USA) ,  KYE Jongwook (GLOBALFOUNDRIES, CA, USA) ,  LEVINSON Harry J. (GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8327  ページ： 832706.1-832706.13  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 適切な設計則はSADP,あるいはリソグラフィー-エッチング-リソグラフィー-エッチング(LELE)のどちらか一方の二重パターン設計(DPT)コンプライアント設計を機能させるのに必要である。大規模な設計では,設計が対応規則を組み入れることにより,DPTフレンドリーであるか否かを調べるのに分解ツールに頼る。設計構図,設計則,標準セルライブラリおよび経路指定のような複数の視点からSADP扱い易い設計フローを機能させる方法に関して説明した。

シソーラス用語： *パターン形成 ,  流れ図 ,  *フォトリソグラフィー ,  ライブラリ【計算機】 ,  回路設計 ,  経路選定 ,  配置設計 ,  超小形回路 ,  通信操作
準シソーラス用語： コンプライアント設計フロー ,  *自己整合二重パターン形成 ,  設計フロー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 自己整合 ,  二重パターン形成 ,  設計フロー