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J-GLOBAL ID：201202237865271511   整理番号：12A1221914

酸性溶液中における多結晶白金における水素アンダーポテンシャル電着の反応論

Kinetics of hydrogen underpotential deposition at polycrystalline platinum in acidic solutions

著者 (3件)： LOSIEWICZ Bozena (Inst. of Materials Sci., Univ. of Silesia, 12 Bankowa, 40-007 Katowice, POL) ,  JURCZAKOWSKI Rafal (Dep. of Chemistry, Univ. of Warsaw, ul. Pasteura 1, 02-093 Warsaw, POL) ,  LASIA Andrzej (Dep. de chimie, Univ. de Sherbrooke, Sherbrooke, Quebec, J1K 2R1, CAN)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 80  ページ： 292-301  発行年： 2012年10月01日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 平滑多結晶白金での水素アンダーポテンシャル電着(HUPD)反応の動力学を0.1M H₂SO₄およびHClO₄中でサイクリックボルタンメトリーおよび電気化学インピーダンススペクトロスコピー(EIS)を用いて研究した。インピーダンスは次の三様のPt電極を用いて測定した。(i)10kHzになるまでの低周波数(LF)で,吊下げメニスカス配置における単Ptディスク電極あるいはPtワイヤでのポテンシオスタットと周波数応答アナライザを用いた古典的セットアップで,またFRAによる1MHzまでの大周波数範囲で自立モードおよび電極の二配置で,(ii)小さな双Pt電極で,そして(iii)一個の吊下げメニスカス電極および同様な幾何サイズだが大きな表面積を持つもう一つの電極を用いて測定した。Pt電極の真の表面積は水素吸着法により測定した。すべてのインピーダンススペクトルはCPE挙動を示した。高周波数測定は,HUPD反応の二重層キャパシタンス,水素吸着擬似キャパシタンスおよび電荷移動抵抗野測定を可能にした。理想の容量応答からのずれは高周波数では低周波数でのものより大きい。この分散の考えられる原因と電気等価回路を検討した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アンダポテンシャル電着 ,  *水素 ,  *多結晶 ,  *白金電極 ,  *電気化学インピーダンス ,  インピーダンススペクトル ,  サイクリックボルタンメトリー ,  周波数依存性 ,  LF【周波数】 ,  HF【周波数】 ,  *電気二重層 ,  *静電容量 ,  *分散【dispersion】 ,  *反応速度論 ,  *分子動力学 ,  吸着 ,  等価回路
準シソーラス用語： *周波数分散 ,  電荷移動抵抗

分類 (3件)： 電極過程  (CB07040U) ,  界面化学一般  (CB12010J) ,  反応速度論・触媒一般  (CB06010G)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸性溶液 ,  多結晶 ,  白金 ,  水素 ,  アンダーポテンシャル電着 ,  反応論