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J-GLOBAL ID:201202238023859304   整理番号:12A1022570

フラストレーティドLewis組の一酸化窒素へのN,N-付加: ユニークなアミノキシルラジカル群への簡単なエントリー

N,N-Addition of Frustrated Lewis Pairs to Nitric Oxide: An Easy Entry to a Unique Family of Aminoxyl Radicals
著者 (14件):
資料名:
巻: 134  号: 24  ページ: 10156-10168  発行年: 2012年06月20日 
JST資料番号: C0254A  ISSN: 0002-7863  CODEN: JACSAT  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ジメシチルシクロヘキセニルホスファンのPier’sボラン[HB(C6F5)2]によるヒドロホウ素化で,分子内シクロヘキシレン架橋P/BフラストレーティドLewis対[Mes2P-C6H10-B(C6F5)2](Ib)を合成した,IbとNOとの反応で,NOの窒素原子へのP/B付加が迅速に起こり,持続的なFLP-NOアミノキシルラジカル(IIb)が形成された。この分子種を,X線回折,EPRとUV/vis分光学,C,H,N元素分析とDFT計算によって完全にキャラクタライズした。反応性酸素中心ラジカルIIbは,1,4-シクロヘキサジエンとH-原子引抜(HAA)反応を起こし,反磁性FLP-NOHが生成した(IIIb)。FLP-NO IIbは,70°Cで,HAA/ラジカル捕獲シーケンスで,トルエンと反応し,FLP-NOH IIIbとFLP-NO-CH2Ph IVbの1:1混合物が生成した。さらに両方ともX線回折によってキャラクタライズした。構造的に関連したFLP類[Mes2P-CHR1-CHR2-B(C6F5)2](Ic,IdとIe)は,それぞれ,NOと類似した反応を起こし,それぞれの持続的な[FLP-NO]ラジカル(IIc,IIdとIIe)を生成し,そして,それらは類似したHAAとO-官能化反応を起こした。1-ブロモエチルベンゼンに由来するFLP-NO-CHMePh(VIb)は,120°Cで活性化エネルギーEa=35(2) kcal/molのNO-C結合開裂を起こした。分子種VIb)は,130°Cでスチレンの制御されたニトロキシド媒介ラジカル重合(NMP)を引き起こし,多分散性インデックスが1.3のポリスチレンが得られた。FLP-NOシステムは,C2橋架け分子内P/BフラストレーティドLewis組の一酸化窒素へのN,N-環状付加により簡単に利用可能な新種のアミノキシルラジカルである。
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