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J-GLOBAL ID：201202238186663571   整理番号：12A0969880

HX-PESならびにXAFSを用いたITOとα-NPD界面へ挿入された三酸化モリブデン薄膜の解析(1)(HX-PES)

著者 (1件)： 塩沢一成 (三井化学分析セ)
資料名： Journal of Surface Analysis  (Journal of Surface Analysis)
巻： 19  号： 1  ページ： A.30-A.31  発行年： 2012年06月28日 
JST資料番号： L3852A  ISSN： 1341-1756  CODEN： JSANFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 有機EL素子の性能向上策として期待されている極薄の正孔注入層(MoO₃)ならびに正孔輸送層(α-NPD)に対するHX-XPS測定を試みた。その結果,MoO₃が挿入されることでα-NPDのC1s,N1s結合エネルギー値が締結号エネルギー側にシフトすることが示唆された。(著者抄録)

シソーラス用語： *酸化モリブデン ,  *発光ダイオード ,  超薄膜 ,  層 ,  キャリア注入 ,  *XAFS ,  *X線光電子分光法
準シソーラス用語： 三酸化モリブデン ,  *有機EL素子 ,  正孔注入層 ,  正孔輸送層

分類 (1件)： 発光素子  (NC03082G)

物質索引 (1件)： α-NPD

タイトルに関連する用語 (8件)： HX ,  XAFS ,  ITO ,  α-NPD ,  界面 ,  三酸化モリブデン ,  薄膜 ,  解析